ASML در 1 آوریل 1984 با نام ASM Lithography تاسیس شد. ماموریت این سرمایه گذاری مشترک بین فیلیپس و ASM اینترنشنال تجاری سازی PAS 2000، یک ویفر استپر توسعه یافته توسط فیلیپس است.
رسوب لایه نازک عبارت است از رسوب لایه ای از فیلم در مقیاس نانو بر روی بستر و سپس فرآیندهای مکرر مانند حکاکی و پولیش برای ایجاد مقدار زیادی از لایه های رسانا یا عایق روی هم...
