شرکت های ژاپنی بازار عرضه نور مقاوم در برابر نور EUV را در انحصار خود دارند

در حال حاضر، تنها دو تولیدکننده تراشه، لیتوگرافی نیمه هادی را با استفاده از لیتوگرافی پرتو فرابنفش شدید EUV تسلط دارند، اما شکی نیست که این آینده لیتوگرافی است. مانند هر آینده ای، این فرصتی را برای برخی از پیشگامان بازار مواد لیتوگرافی فراهم می کند تا خود را در بازارهای جدید مستقر کنند. به ویژه فناوری مورد استفاده در لیتوگرافی EUV در حال حاضر توسط دو شرکت ژاپنی تولید می شود و یکی از آنها فوجی فیلم معروف است.

Fujifilm Holdings و Sumitomo Chemical عرضه مواد لیتوگرافی برای نسل بعدی تراشه‌ها را در سال 2021 آغاز خواهند کرد که می‌تواند به کاهش اندازه تراشه‌ها در گوشی‌های هوشمند و سایر دستگاه‌ها و کاهش مصرف انرژی آنها کمک کند. این ماده عمدتاً به عنوان منبع نور مقاوم استفاده می شود و نقش عمده ای در حکاکی کریستال های سیلیکون ایفا می کند.

شرکت‌های ژاپنی قبلاً عرضه فوتوریست را دریافت کرده‌اند. به عنوان مثال، دو شرکت ژاپنی، JSR و Shin-etsu Chemical، عمدتاً نور مقاومی را که برای کنترل دستگاه‌های لیتوگرافی EUV استفاده می‌شود، عرضه می‌کنند که 90 درصد از بازار دستگاه‌های لیتوگرافی را به خود اختصاص می‌دهند. این انحصار مجازی حتی به ژاپن اجازه می‌دهد تا کره جنوبی را با عرضه مواد محدود کند، اتفاقی که قبلاً یک سال پیش در بازار تراشه رخ داده است. خوشبختانه همه چیز درست شد.

بنابراین Fujifilm و Sumitomo Chemical ارائه دهنده نور مقاوم برای لیتوگرافی EUV وضعیت را بیشتر کاهش می دهد، اگرچه آنها نیز شرکت های ژاپنی هستند.

فوجی فیلم در حال سرمایه گذاری 4.5 میلیارد ین (42.6 میلیون دلار) برای تجهیز یک کارخانه تولیدی در استان شیزوکا در جنوب غربی توکیو است تا تولید انبوه فتورزیست را در سال آینده آغاز کند. به گفته نمایندگان این شرکت، مقاومت نوری آن حداقل مقدار مواد باقیمانده را روی سیلیکون باقی می گذارد و احتمال نقص تراشه را تا حد زیادی کاهش می دهد.

Sumitomo Chemical تمام ظرفیت مقاوم در برابر نور (از طراحی تا تولید) را در کارخانه اوزاکا تا اوایل سال مالی 2022 تکمیل خواهد کرد. با این حال، به عنوان تامین کننده اسکنر 193 نانومتری مقاوم نوری، قراردادی را با یک سازنده معروف از قبل برای محصولات آینده امضا کرده است. برای TSMC.

در آینده، موضوع تولید نور مقاوم برای فرآیندهای فناوری 3 نانومتری اهمیت پیدا خواهد کرد، زیرا فتورزیست های مدرن به دلایل زیادی برای استفاده مناسب نیستند. تکنولوژی EUV نیاز به استفاده از فوتوریست منحصر به فرد دارد و هر چه فناوری فرآیند کوچکتر باشد، نیازهای مقاوم به نور بیشتر است.

از اکتبر 2020: در پاسخ به افزایش تقاضا برای 5G و نیمه هادی های مرکز داده، صنعت شیمی شین اتسو ژاپن (Shin-Etsu Chemical) اعلام کرد که کارخانه جدیدی در تایوان خواهد ساخت تا ظرفیت تولید مواد نیمه هادی "مقاومت نوری" را افزایش دهد. 5 درصد و با توجه به افزایش سفارشات از TSMC، Shin-etsu Chemical همچنین شروع به استفاده از کارخانه تایوان برای تولید نور مقاوم در برابر نور فرابنفش شدید (EUV) خواهد کرد.

Shin-etsu Chemical قصد دارد کارخانه‌های مقاوم به نور در شهرستان یونلین، تایوان، و ژیجیانگجین، ژاپن بسازد و انتظار می‌رود که تولید را به ترتیب در فوریه 2021 و فوریه 2022 فعال کند و در نتیجه ظرفیت تولید را 50 درصد در تایوان و 20 درصد در ژاپن افزایش دهد. ، با کل سرمایه گذاری حدود 30 میلیارد ین تخمین زده می شود. بر اساس این گزارش، Shin-etsu Chemical همچنین شروع به استفاده از کارخانه تایوان برای تولید فوتوریست های مورد استفاده در فناوری پیشرفته تولید نیمه هادی "نور فرابنفش شدید (EUV)" خواهد کرد. Shin-etsu Chemical در حال حاضر فوتوریست های EUV را فقط در کارخانه خود در ژاپن تولید می کند، اما به دلیل افزایش سفارشات مشتریانی مانند TSMC، شبکه تامین خود را برای تولید فوتوریست های EUV در کارخانه خود در تایوان گسترش خواهد داد.

بر اساس گزارش آژانس تحقیقات بازار ژاپن Fujifilm Economy اشاره کرد که اندازه بازار جهانی فوتوریست در سال 2024 حدود 250 میلیارد ین تخمین زده می شود که از سال 2019 60 درصد افزایش می یابد. سهم بازار، که شین etsu سهم بازار شیمیایی 2-3. Fujifilm (Fujifilm) و Sumitomo Chemical (Sumitomo Chemical) نیز اعلام کرده اند که وارد بازار EUV photoresist خواهند شد.

Fountyl Technologies PTE Ltd. با چاک خلاء میکرو متخلخل را می توان با تجهیزات ژاپنی، آلمانی، اسرائیلی، آمریکایی و داخلی، با عملکرد محصول بسیار برتر و خدمات یک به یک خوب استفاده کرد.