فناوری CMP (Chemical Mechanical Polishing) یک فرآیند کلیدی برای دستیابی به سطوح یکنواخت و مسطح جهانی ویفر در تولید نیمه هادی است.
فرمول شیمیایی کاربید سیلیکون که به عنوان کاربید سیلیکون نیز شناخته می شود، SIC است. از احیای کربوترمال دی اکسید سیلیکون برای تشکیل یک ماده با پیوند کووالانسی فوق سخت تشکیل می شود. این من...
