Lakay
Pwodwi prensipal
Microporous seramik Vacuum Chuck
Karakteristik vakyòm seramik
Pèmeyabilite fò: pèmeyabilite lè inifòm ak pèmeyabilite dlo, asire fòs inifòm la ak byen sere adsorption nan wafer nan Silisyòm nan pwosesis la fanm k'ap pile san glise.
Estrikti dans ak inifòm: Adopsyon materyèl seramik mikwo-pore ak estrikti dans ak inifòm, ki pa fasil pou adsorbe pousyè Silisyòm, ak chuck la fasil pou netwaye.
Segondè fòs: pa gen deformation pandan fanm k'ap pile, asire ke wafer nan Silisyòm se respire ensiste nan chak pwen lè fanm k'ap pile, epi li pa fasil rive fenomèn yo nan efondreman kwen, debri.
Long lavi: retansyon an fòm sifas se yon bon bagay, sik la abiye se long ak kantite lajan an abiye se ti, kidonk li gen yon lavi segondè.
Fasil abiye: pa pral gen okenn fann, fwagmantasyon, batman fenomèn lè abiye.
Lejè: Akòz estrikti entèn nan porositë, koyefisyan gravite espesifik la se 1.6-2.8.
Segondè izolasyon: izolasyon materyèl, elimine elektrisite estatik.
Kontwòl Presizyon
| kategori | Materyèl de baz | Materyèl sifas adsorption | Gwosè | Flatness | pwofondè de paralelis |
| Chuck pore | Aliminyòm alyaj | Pore SIC | ≤12μm | ≤15μm | ≤20μm |
| Asye pur | ≤10μm | ≤15μm | |||
| Alumina | ≤5μm | ≤8μm | |||
| Silisyòm Carbide | ≤3μm | ≤8μm | |||
| Chuck seramik pore a gen yon seri konplè espesifikasyon ak gwosè, ki ka itilize nan liy 3-pous, liy 4-pous, liy 5-pous, liy 6-pous, liy 8-pous ak liy 12-pous, ak ka Customized dapre espesifikasyon yo ak gwosè ou bezwen. | |||||
| Gwosè maksimòm ka aktyèl la se: 1600 * 1600m, epesè se 50mm; | |||||
Karakteristik materyèl seramik pore:
Engredyan prensipal: alumina Koulè: nwa, fè gri
Kontni alumina: 92% Kontni imidite: 0%
Ouverture: 2 ~ 30um Porosite: 35 ~ 40%
Koube fòs: 6kgf/cm2 (Mpa) Volim rapò: 2.28g/cm3
Kalite mandrin seramik
Dapre itilizasyon an, mandrin seramik yo divize an:
Machin eklèsi ekipe ak: abrazif disk chuck, wafer Silisyòm, substrate safi ak lòt eklèsi;
Koupe machin ekipe ak: scribing chuck, Silisyòm wafer, semi-conducteurs konpoze wafer ak lòt koupe;
Netwayaj machin ekipe ak: netwaye mandrin;
Se machin retire fim ekipe ak: fim retire chuck;
Laminasyon machin ekipe ak: laminasyon chuck;
Enpresyon machin ekipe ak: enprime chuck.
Kalite asirans
Fountyl gen anpil ane eksperyans teknik sou jeni presizyon seramik ak ultra-presizyon pwosesis ak fabrikasyon, yon varyete de enstriman analiz fizik ak chimik ak enstriman mezi jeyometrik, asire estabilite nan pwodiksyon ak konsistans nan pwodwi pou chuck seramik.
Aplikasyon pou pwodwi
Chuck pore (adsorption travay tab) se yon eleman ki itilize nan etap fabrikasyon semi-conducteurs ak reyini sou yon machin scribing oswa aparèy enspeksyon. Li se yon pwodwi ki ka sèvi ak estrikti ki mouye ak presyon negatif nan sifas la nan workbench la kenbe wafer nan mens Silisyòm plat. Machin nan scribing koupe wafer nan Silisyòm ak lajè a sou 20μm, kidonk egzijans nan flatness ak paralelis nan sifas la adsorption wafer yo trè wo. Dapre karakteristik respektif yo, estrikti pò diferan yo gen diferan ranje aplikasyon, tankou seramik mikwopore ak gwo sifas espesifik ak ti gwosè pò, anjeneral yo itilize nan filtraj bakteri ak jaden fixation mikwòb; Seramik mesoporous ak distribisyon espesifik dyamèt yo souvan itilize nan separasyon, jaden kataliz adsorption. Seramik macroporous yo anjeneral apwopriye pou filtraj ki graj nan sibstans ki sou ak yon kontni gwo ak gwo gwosè.