Carburo di silicio sinterizzato OEM Reaction: prestazioni superiori

Prodotti correlati

Mandrino per wafer utilizzato per il dispositivo di esposizione dei semiconduttori e il dispositivo di ispezione dei wafer

Per saperne di più

Ceramica al nitruro di silicio con eccellenti proprietà fisiche, chimiche e meccaniche

Ceramica di allumina con eccellente resistenza alla corrosione al plasma ed elevata resistenza all'usura

Ceramica al nitruro di alluminio utilizzata per parti che dissipano il calore e parti resistenti alla corrosione

Ceramica porosa con resistenza alle alte temperature, elevata resistenza, buona stabilità chimica

Carburo di silicio utilizzato per parti resistenti alla corrosione, parti di guarnizioni, parti resistenti alle alte temperature, binari di guida e travi quadrate

Mandrino elettrostatico con compatibilità, alta densità, elevata resistenza strutturale con personalizzazione

Prodotti più venduti

Piattaforma galleggiante ad aria porosa con tecnologia di trasferimento del carico in modalità senza contatto per l'industria dei semiconduttori

Vetro di quarzo fuso con vari tipi di puro quarzo naturale

Parte strutturale in vetro di quarzo utilizzata per semiconduttori, ottica, comunicazione ottica, settore fotovoltaico e LED

Ceramica all'ossido di berillio con elevata conduttività termica e caratteristiche di bassa perdita

Parte strutturale in carburo di silicio di alluminio utilizzato per l'aviazione, l'aerospaziale, le navi marittime, il trasporto ferroviario e il settore dei veicoli a nuova energia

Parti strutturali in ceramica (parti in ceramica)

Blog correlato

Introduzione del riscaldatore ceramico in nitruro di alluminio, un componente chiave delle apparecchiature a semiconduttore

Nel processo di produzione del wafer, il wafer deve essere riscaldato a una determinata temperatura e l'uniformità della temperatura del wafer ha un requisito molto rigoroso, poiché l'uniformità della temperatura del wafer...

Un elemento essenziale nella produzione di chip: il plasma

Il plasma fu scoperto per la prima volta da William Crookes nel 1879 e chiamato "plasma" da Irving Langmuir nel 1929. L'applicazione del plasma nella produzione di chip è molto comune e importante, si può dire che...

Ricerca correlata

Leave Your Message