EUVリソグラフィー装置はチップ製造の中核装置として注目を集めており、ASMLの重要性がますます高まっており、その波の中で、EUV露光装置の重要性がますます高まっています。
新しいサーマル トランジスタからより高速な半導体材料に至るまで、これらの最も重要な技術革新が半導体産業を前進させています。