水素ベースのプラズマに切り替えることで、GaN 基板の高速エッチングが保証され、日本の大阪大学の技術者らは、窒化ガリウム (GaN...
EUVリソグラフィー装置はチップ製造の中核装置として注目を集めており、ASMLの重要性がますます高まっており、その波の中で、EUV露光装置の重要性がますます高まっています。