CMP (化学機械研磨) 技術は、半導体製造において世界的に均一で平坦なウェーハ表面を実現するための重要なプロセスです
「微多孔質セラミックス」は、これまでの一般的な「セラミックス」という認識とは異なり、業界のいたるところで見られる工業用素材です。 微多孔質セラミックスに関して言えば、...