半導体プロセス全体で繰り返し洗浄する必要があり、洗浄プロセスは半導体業界全体で行われており、全生産プロセスの 30% 以上を占めています。
水素ベースのプラズマに切り替えることで、GaN 基板の高速エッチングが保証され、日本の大阪大学の技術者らは、窒化ガリウム (GaN...