세라믹 성형은 세라믹 준비 공정에서 중요한 부분이며, 성형 기술은 몸체의 균일성과 복잡한 모양의 재료를 준비하는 능력을 결정합니다.
수소 기반 플라즈마로 전환하면 GaN 기판의 고속 에칭이 보장되며, 일본 오사카 대학의 엔지니어들은 질화갈륨(GaN)을 얇게 만드는 데 새로운 돌파구를 마련했다고 주장합니다.
