Reinigingsproces van halfgeleiders

In de halfgeleiderindustrie is het belang van het reinigingsproces vanzelfsprekend. Naarmate de industrie zich blijft ontwikkelen op het gebied van nanoprocessen, worden de eisen voor de reinheid van het wafeloppervlak steeds strenger. In het productieproces zijn de reinigingsstappen complex maar onmisbaar; ze vertegenwoordigen ongeveer een derde van het gehele chipproductieproces. Bij het schoonmaken gaat het niet alleen om de opbrengst van de chip, maar ook om de elektrische prestaties en betrouwbaarheid op de lange termijn. Daarom moeten we een diepgaand begrip hebben van deze essentiële schakel om een ​​efficiënt en milieuvriendelijk productieproces te garanderen.

Het belang van reinigingsprocessen

Productieprocessen zoals diffusie, afzetting, ionenimplantatie, etc. moeten voor en na het proces worden gereinigd. Het doel van het reinigen is het verwijderen van verontreinigingen van de chip, waaronder deeltjes, organisch materiaal, metaalverontreinigingen en oxiden. Allerlei fijnstof, chemicaliën en zelfs de productieapparatuur zelf kunnen een bron van vervuiling worden. Elke reinigingsstap vereist specifieke apparatuur, chemicaliën en procesomstandigheden.

Natte reinigingstechnologie

Nat reinigen is de meest gebruikte methode bij het reinigen van halfgeleiders. Door de introductie van de RCA-reinigingstechnologie weten we dat dit een standaard industrieel reinigingsproces is, voorgesteld door de Radio Corporation of America in de jaren zestig. RCA-reiniging gebeurt voornamelijk door een combinatie van standaardreinigingsvloeistoffen 1 en 2, beide op basis van waterstofperoxide, die respectievelijk deeltjes, metalen en organisch materiaal verwijderen. Het reinigingsprincipe omvat chemische oxidatie en elektrochemische afstoting.

Optimalisatie van het reinigingsproces en uitdagingen

Met de toenemende verbetering van reinigingsprocessen zijn nieuwe gemengde oplossingen zoals SPM (H2SO4/H2O2) en verdund fluorwaterstofzuur (DHF) geïntroduceerd. Deze reinigingsmethoden worden echter ook geconfronteerd met veel uitdagingen, zoals de concentratie van oplossingscomponenten, de temperatuur van de oplossing en andere factoren die het uiteindelijke reinigingseffect kunnen beïnvloeden. Bovendien is de vloeibaarheid van de oplossing tijdens het reinigingsproces net zo belangrijk als het wassen van het wafeloppervlak.

Innovatieve reinigingstechnologie

Momenteel zijn het besparen van hulpbronnen en het verbeteren van de efficiëntie een ontwikkelingstrend geworden. Verdunde chemische reiniging en IMEC-reiniging, die zich beide richten op het verminderen van het gebruik van chemicaliën en gedeïoniseerd water en tegelijkertijd het optimaliseren van de levensduur van de oplossing, bereiken milieuvriendelijkere en economischere resultaten. Verdund HPM is bijvoorbeeld net zo effectief als conventioneel HPM en kan ook metaalverontreinigingen verwijderen, terwijl het totale chemicaliënverbruik met 14% wordt verminderd.

Om de reinigingsefficiëntie te verbeteren, is het reinigen van enkele wafels een nieuwe trend geworden. Er wordt verwacht dat het de productopbrengsten aanzienlijk zal verbeteren en de kosten zal verlagen door het risico op kruisbesmetting te verminderen. Daarnaast wordt de toepassing van stomerijtechnologie steeds populairder, hoewel deze de natte reiniging niet volledig kan vervangen, maar de stomerij heeft wel zijn unieke voordelen, zoals geen restafvalvloeistof en beter geschikt voor specifieke lokale behandeling.

Belang van het droogproces

Het droogproces na het reinigen is ook van cruciaal belang. Wafels moeten onmiddellijk worden gedroogd om oxidatie of watervlekken te voorkomen. Droogtechnieken zoals Marangoni-drogen en Rotagoni-drogen verwijderen vocht door nauwkeurige droogmethoden om de chip schoon te houden.

Frichting van de toekomst

In het licht van steeds complexere processen en voortdurend verbeterde apparatuur, wordt het reinigen van halfgeleiders met steeds meer uitdagingen geconfronteerd. Onderzoekers werken aan efficiëntere reinigingstechnieken, zoals het combineren van megatonische golven, om fijnere deeltjes te verwijderen. Op het gebied van uiterst nauwkeurige productieprocessen zullen reinigingsprocessen ongetwijfeld een hotspot voor innovatie en ontwikkeling worden.

Het reinigen van halfgeleiders is een belangrijk onderdeel van het chipproductieproces. De voortgang en innovatie ervan houden rechtstreeks verband met de toekomst van de hele industrie. Milieuvriendelijke en efficiënte schoonmaakmethoden zullen de sleutel zijn tot het bevorderen van de duurzame ontwikkeling van de industrie. Naarmate de technologie verder rijpt, wordt verwacht dat de halfgeleiderindustrie in staat zal zijn het gebruik van hulpbronnen te maximaliseren en de impact op het milieu te minimaliseren, terwijl de chipkwaliteit en -prestaties worden gewaarborgd.

Fountyl Technologies PTE Ltd, richt zich op de halfgeleiderindustrie, de belangrijkste producten zijn onder meer: ​​pin chuck, ringgroef chuck, poreuze keramische chuck, keramische eindeffector, keramische balk en geleider, keramisch structureel onderdeel, welkom bij contact en onderhandeling！