Niestandardowy ceramiczny uchwyt elektrostatyczny do precyzyjnych zastosowań typu Coulomb

Produkty powiązane

Część konstrukcyjna ze szkła kwarcowego stosowana w półprzewodnikach, optyce, komunikacji optycznej, fotowoltaice i polu LED

Czytaj więcej

Ceramika z tlenku berylu o wysokiej przewodności cieplnej i niskich stratach

Materiał PEEK z wysokowydajnym tworzywem konstrukcyjnym o doskonałej odporności na ciepło, odporność chemiczną, wytrzymałość mechaniczną i stabilność wymiarową

Cyrkon stosowany do części odpornych na zużycie, części żaroodpornych

Części ceramiczne z tlenku berylu stosowane w samochodach i półprzewodnikach oraz w dużych układach scalonych

Ceramika z węglika krzemu i aluminium stosowana w przemyśle lotniczym, motoryzacyjnym, wojskowym, elektronicznym i sportowym

Mikroporowaty ceramiczny uchwyt próżniowy

Najlepiej sprzedające się produkty

Ceramika z tlenku glinu o doskonałej odporności na korozję plazmową i wysokiej odporności na zużycie

Porowata ceramika o odporności na wysoką temperaturę, wysokiej wytrzymałości, dobrej stabilności chemicznej

Uchwyt z rowkiem pierścieniowym jest szeroko stosowany w sprzęcie do produkcji półprzewodników do pochłaniania, mocowania, przenoszenia i przenoszenia płytek krzemowych, płytek oraz różnych przedmiotów i materiałów.

Porowata platforma pływająca powietrzna z technologią przenoszenia obciążenia w trybie bezdotykowym dla przemysłu półprzewodników

Ceramiczny efektor końcowy (ceramiczny palec, ceramiczne ramię robota)

Część konstrukcyjna z węglika krzemu i aluminium stosowana w lotnictwie, przemyśle lotniczym, statkach morskich, transporcie kolejowym, dziedzinie nowych pojazdów energetycznych

Powiązany blog

Właściwości ceramiki cyrkonowej

Ceramika cyrkonowa (ZrO2), o wysokiej temperaturze topnienia, dużej twardości, doskonałej odporności na zużycie, jako izolator w normalnej temperaturze i w wysokiej temperaturze...

Zastosowanie technologii PVD w urządzeniach półprzewodnikowych

W szybko rozwijającej się dziedzinie technologii półprzewodników fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) jest kluczowym narzędziem umożliwiającym osiągnięcie precyzji i wydajności procesów osadzania cienkowarstwowego. Ten papier...

Powiązane wyszukiwanie

Leave Your Message