Análise de mercado de equipamentos limpos/úmidos para limpeza de wafers

Todo o processo de semicondutores precisa ser limpo repetidamente, e o processo de limpeza passa pela indústria de semicondutores, representando mais de 30% do processo de produção total. A partir da análise do valor de produção de todo o mercado de equipamentos da indústria de semicondutores, o equipamento de processamento de wafer é responsável por 80%, e o valor total da produção da etapa de limpeza é responsável por cerca de 33% do equipamento de processamento de wafer, e o equipamento de limpeza desempenha um impacto crucial na taxa de aprovação e nos benefícios econômicos da linha de produção.

De acordo com dados da SEMI, o mercado global de equipamentos de limpeza de wafers é de US$ 3,7 bilhões em 2020, representando 5% de todos os equipamentos. Entre eles, a Screen Electronics Co., as três primeiras no mercado de equipamentos de limpeza de wafers. Juntas, Screen, Tokyo Electron Limited (TEL) e Lam Research Corporation (Lam) respondem por 87,7% do mercado de equipamentos de limpeza de wafers. O relatório de pesquisa aprofundada da indústria de equipamentos de limpeza de semicondutores da Guangfa Securities mostra que, em 2019, a demanda global por máquinas de limpeza de megatons é de 221 unidades, e apenas o mercado de máquinas de limpeza de megatons pode chegar a US$ 663 milhões. Naura Chuang, a tecnologia pura representaram menos de 1%. Com a transferência da indústria de semicondutores para a China, o espaço do mercado interno está aumentando, os recursos potenciais dos clientes são abundantes e a máquina de limpeza precisa cobrir o mais recente processo doméstico. De acordo com estimativas da Guangfa Securities, nos cinco anos de 2019 a 2023, o espaço de mercado de equipamentos de limpeza das empresas do continente atingirá mais de 40 bilhões de yuans. A tabela mostra a participação no mercado de máquinas de limpeza úmida e a participação no mercado doméstico medidas pela GF Securities.

A empresa é líder global em equipamentos de limpeza, com 45,1% da participação no mercado global de equipamentos de limpeza de semicondutores, de acordo com a SEMI, com 60% de sua receita proveniente de limpadores SU3200 que podem ser usados ​​em processos de 7nm. Fundada em 1868, a empresa desenvolveu a primeira geração de equipamentos de limpeza de wafers em 1975. Nos 40 anos seguintes, a empresa concentrou-se na pesquisa, desenvolvimento e promoção de equipamentos de limpeza de wafers, fornecendo equipamentos de limpeza de semicondutores baseados no Japão e para o mundo. A participação de mercado dos três campos de equipamentos de limpeza mais importantes: equipamentos de limpeza de wafer único, mesa de limpeza automática e máquina de lavar ocupa o primeiro lugar no mundo e é líder em tecnologia de equipamentos de limpeza. Atualmente, a empresa está sediada no Japão e possui filiais nos Estados Unidos, Europa, Coreia do Sul e Pequim, Tianjin, Wuxi, Wuhan, Dalian, Shenzhen e Taiwan na China. A rede de vendas de equipamentos de limpeza abrange Intel, TSMC, Samsung, SK Hynix, SMIC, Huahong e outros gigantes internacionais conhecidos.

A última geração de equipamentos de limpeza é o SU-3300, que é derivado da longa série SU dominante, começando com a série SU-2000, SU-3100, SU-3200, SU tem estado na vanguarda do processo de chip usado em a máquina de limpeza de última geração. Como é mostrado na imagem:

A Tokyo Electronics é a segunda maior empresa de equipamentos de limpeza de wafers depois da Dean. Em junho de 2020, ela vendeu mais de 62.000 conjuntos de equipamentos de limpeza em todo o mundo e é a primeira empresa a fabricar continuamente 11 wafers de altíssima pureza. Fundada em 1963, a Tokyo Electronics se fundiu com a Thermco Products Corp em 1968 para se tornar o primeiro fabricante de equipamentos de fabricação de semicondutores no Japão e começou a projetar e fabricar equipamentos de limpeza de wafers no mesmo ano e se tornou o principal fornecedor de equipamentos de limpeza em 1981. Em 1989- 1991 até ultrapassou Dean por três vezes consecutivas como campeão de equipamentos de limpeza. Nas duas décadas seguintes, a Tokyo Electronics também ficou firmemente classificada em segundo lugar no trono mundial de equipamentos de limpeza de wafers.

A última geração de produtos de equipamentos de limpeza da Tokyo Electron é o CELLESTA SCD, os produtos da série CELLESTA são amplamente utilizados para limpar wafers de silício em processos de semicondutores, incluindo chips de tamanho pequeno, chips lógicos complexos e memória DRAM usados ​​em PC ou NB. Como é mostrado na imagem:

Pangilin Semiconductor é ideia da empresa de tecnologia de semicondutores de David K. Lam, fundada em 1980 e sediada no Vale do Silício, Califórnia, é um dos principais fornecedores mundiais de fabricação e serviços de wafer, com uma participação geral perdendo apenas para ASML e AMAT, classificando terceiro no mundo. Na área de equipamentos de limpeza de wafers, a Panglin Semiconductor Company também está classificada em terceiro lugar no mundo, depois da Dean e da Tokyo Electronics Company, respondendo por cerca de 12,5% do mercado global em 2019.

A última geração de equipamentos de limpeza Pan Forest é o Coronus HP

Conforme mostrado na figura, este sistema de limpeza de wafer usa tecnologia de confinamento de plasma para proteger eficazmente a área do chip; A remoção in situ de camadas de película fina e resíduos de vários materiais e a remoção seletiva de materiais indesejados das bordas do wafer podem melhorar a eficiência da produção e melhorar o rendimento do produto; A película metálica pode ser eliminada, o que pode impedir a formação de arco nas etapas subsequentes do plasma.

Semi Semiconductor possui duas tecnologias principais autodesenvolvidas - SAPS (espaço alternado mudança de fase) e tecnologia de limpeza TEBO (oscilação oportuna de bolha energizada). Os dois resolveram os problemas de uniformidade de distribuição de energia de mega-sons e energia destrutiva, e possuem uma série de patentes e tecnologias essenciais no campo da limpeza de mega-sons. Em resposta à grande quantidade de águas residuais de ácido sulfúrico de alta concentração e difícil de tratar descarregadas durante o processo de produção de chips, Sheng Mei inventou exclusivamente o primeiro equipamento de limpeza de ácido sulfúrico em alta temperatura -UltracTahoe, uma característica deste equipamento é reduzir a quantidade de ácido sulfúrico utilizado em 90%, reduzindo o impacto da indústria de semicondutores no meio ambiente.

Conforme mostrado na figura, tendo em vista o problema que a tecnologia tradicional de limpeza de slotsnão é limpo o suficiente no processo abaixo de 28nm, a UltracTahoe desenvolveu uma nova geração de equipamentos de limpeza combinados, primeiro limpando o chip no slot e, em seguida, o princípio da limpeza de peça única, que pode reutilizar ácido sulfúrico e obter um efeito de limpeza de alta clareza, o que pode reduzir a poluição ambiental e economizar custos enormes.

Fountyl Technologies PTE Ltd,écom foco na indústria de fabricação de semicondutores, principal os produtos incluem: Mandril de pino, mandril de cerâmica porosa, extremidade de cerâmicaefetor, cerâmicaviga quadrada, fuso de cerâmica, bem-vindo aocontato e negociação!