Японские компании монополизируют рынок поставок фоторезиста EUV

В настоящее время только два производителя чипов освоили полупроводниковую литографию с использованием литографии в экстремальном ультрафиолетовом излучении EUV, но нет сомнений, что это будущее литографии. Как и любое будущее, оно предоставляет возможность некоторым пионерам рынка литографических материалов утвердиться на новых рынках. В частности, технологию, используемую в EUV-литографии, в настоящее время производят две японские компании, и одна из них — известная Fujifilm.

Fujifilm Holdings и Sumitomo Chemical начнут поставлять литографические материалы для чипов следующего поколения в 2021 году, что может помочь уменьшить размер чипов в смартфонах и других устройствах и сделать их более энергоэффективными. Этот материал в основном используется в качестве источника фоторезиста и играет важную роль при травлении кристаллов кремния.

Японские компании уже захватили поставки фоторезиста. Например, две японские компании, JSR и Shin-etsu Chemical, в основном поставляют фоторезист, используемый для управления машинами EUV-литографии, на долю которых приходится 90% рынка литографических машин. Эта виртуальная монополия даже позволяет Японии ограничивать Южную Корею в поставках материала, что уже произошло на рынке чипов год назад. К счастью, все обошлось.

Так что Fujifilm и Sumitomo Chemical, предлагающие фоторезист для EUV-литографии, еще больше облегчат ситуацию, хотя они тоже японские компании.

Fujifilm инвестирует 4,5 миллиарда иен (42,6 миллиона долларов) в оборудование завода в префектуре Сидзуока, к юго-западу от Токио, чтобы в следующем году начать массовое производство фоторезиста. По словам представителей компании, ее фоторезист оставляет на кремнии минимальное количество остаточного материала, что значительно снижает вероятность дефектов чипа.

Sumitomo Chemical завершит все мощности по производству фоторезиста (от проектирования до производства) на заводе в Осаке к началу 2022 финансового года. Однако, как поставщик фоторезиста для сканеров с длиной волны 193 нм, она заранее подписала контракт с известным производителем на будущую продукцию, возможно, для ТСМС.

В будущем актуальным станет вопрос производства фоторезиста по 3-нм техпроцессу, поскольку современные фоторезисты по многим причинам непригодны для использования. Технология EUV требует использования уникального фоторезиста, и чем меньше техпроцесс, тем выше требования к фоторезисту.

По состоянию на октябрь 2020 года: в ответ на растущий спрос на полупроводники для сетей 5G и центров обработки данных японская компания Shin-Etsu Chemical Industry (Shin-Etsu Chemical) заявила, что построит новый завод на Тайване для увеличения производственных мощностей по производству полупроводниковых материалов «фоторезиста». на 5%, а в связи с увеличением заказов от TSMC Shin-etsu Chemical также начнет использовать тайваньский завод для производства фоторезиста «экстремального ультрафиолета (EUV)».

Shin-etsu Chemical планирует построить новые заводы по производству фоторезиста в округе Юньлинь, Тайвань, и Чжицзянцзине, Япония, и, как ожидается, активирует производство примерно в феврале 2021 года и феврале 2022 года соответственно, тем самым увеличив производственные мощности на 50% на Тайване и на 20% в Японии. , с предполагаемым общим объемом инвестиций около 30 миллиардов иен. Согласно отчету, Shin-etsu Chemical также начнет использовать тайваньский завод для производства фоторезистов, используемых в передовой технологии производства полупроводников «экстремальный ультрафиолетовый свет (EUV)». Shin-etsu Chemical в настоящее время производит фоторезисты EUV только на своем заводе в Японии, но в связи с увеличением заказов от таких клиентов, как TSMC, она расширит свою сеть поставок для производства фоторезистов EUV на своем заводе в Тайване.

По данным японского агентства по исследованию рынка Fujifilm Economic, объем мирового рынка фоторезиста оценивается примерно в 250 миллиардов иен в 2024 году, что увеличится на 60% по сравнению с 2019 годом. На мировом рынке фоторезиста японские производители контролируют около 80% доля рынка, из которых доля рынка Shin-etsu Chemical составляет 2-3. Fujifilm (Fujifilm) и Sumitomo Chemical (Sumitomo Chemical) также объявили о выходе на рынок фоторезиста EUV.

Fountyl Technologies PTE Ltd. с микропористым вакуумным патроном может использоваться с японским, немецким, израильским, американским и отечественным оборудованием, обеспечивая очень превосходные характеристики продукта и хорошее индивидуальное обслуживание.