Полупроводниковый прецизионный керамический вакуумный патрон

Пористый керамический вакуумный патрон герметизирован воздухом для поддержания передачи, а применение устройства ограничено работой на платформах с плоскими, непористыми поверхностями. Пользователь обычно является оператором станка. В области металлообработки это безопасная и надежная передача заготовок.

Автоматическая передача нагрузки, поглощение объекта, позиционирование, стол для точной трафаретной печати, использование пористой керамики (оксида алюминия или карбида кремния), подключенной к вакуумному всасыванию, рабочий объект (включая пластину, стекло, ПЭТ-пленку или другой тонкий рабочий объект), помещенный на керамический рабочий патрон, использование вакуумного всасывания для фиксации рабочего объекта, очистки, резки, шлифования, трафаретной печати и других процедур обработки.

Микропористый вакуумный керамический рабочий диск представляет собой специальный инструмент для адсорбции и подшипника в процессе производства различных полупроводниковых листов, который используется в процессах утонения, скрайбирования, очистки и обработки. Рабочая плита, произведенная сингапурской компанией Fountyl Technologies PTE Ltd, может использоваться с оборудованием из Японии, Германии, Израиля, США и внутри страны, обеспечивая превосходные характеристики и цену.

Сингапурская компания Fountyl Technologies PTE Ltd. Специализируется на производстве и переработке оксида алюминия, циркония, нитрида кремния, производства и обработки керамики из карбида кремния. Сильная техническая сила, хорошее оборудование, богатый опыт обработки. Существующий ряд прецизионного оборудования с ЧПУ, прецизионных станков, а также различных передовых технологий обработки и инструментов обработки, а также оснащен различными прецизионными испытательными инструментами для обеспечения точности качества продукции. По чертежам заказчика изготовление, обработка различных технических характеристик, видов прецизионных керамических деталей. Продукция обладает высокой точностью и хорошими характеристиками и широко используется в полупроводниковой, фотоэлектрической, точной технике, военной, медицинской и научно-исследовательской областях.

Тип патрона: микропористая керамика.

Основные характеристики: плоскостность, параллельность, плотная и однородная текстура, высокая прочность, хорошая проницаемость и адсорбция.

Может производить: 2, 3, 4, 5, 6, 8, 12-дюймовые полупроводниковые чипы.