ගෙදර
නිෂ්පාදන
ගැළපුම, අධි-ඝනත්වය, අභිරුචිකරණය කළ ඉහළ ව්යුහාත්මක ශක්තිය සහිත විද්යුත් ස්ථිතික චක්
විශේෂාංග
ගැළපුම | අභිරුචිකරණය | අධික ඝනත්වය | ඉහළ ව්යුහාත්මක ශක්තිය | වේගවත් බෙදාහැරීමේ වේලාව | පිරිවැය ඵලදායී
අයදුම්පත්
Lon-implantation | තුනී පටල | Etch | ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය | උපකරණ නිර්මාණය
නිර්මාණය සහ නිෂ්පාදනය
අඟල් 12 Fab සත්‍ය කාර්ය සාධනය සත්‍යාපනය කිරීමට, පුනර්ජනනය සහ අළුත්වැඩියා කිරීමට සහ සංවර්ධනය සහ සැලසුම් සත්‍යාපනය කිරීමට ලබා දෙන ලදී.
අර්ධ සන්නායක සහ ඒකාබද්ධ පරිපථයේ ක්‍රියාවලි උපකරණ සහ ක්‍රියාවලි තාක්ෂණය දියුණු කිරීමත් සමඟ කාබනික පොලිමර් ද්‍රව්‍ය, ලෝහ ඔක්සයිඩ් සහ සෙරමික් ද්‍රව්‍ය පාර විද්යුත් ලෙස භාවිතා කරන සම්ප්‍රදායික විද්යුත් ස්ථිතික චක් සිලිකන් වේෆර්, නිල් මැණික් සහ සිලිකන් කාබයිඩ් වැනි ද්‍රව්‍ය සමඟ සම්පුර්ණයෙන්ම නොගැලපේ. එබැවින්, පළමු, දෙවන සහ තුන්වන පරම්පරාවේ අර්ධ සන්නායක වේෆර් ග්‍රිපර් සමඟ අනුකූල වන විද්යුත් ස්ථිතික චක් ක්‍රමයෙන් වර්ධනය වේ.
පොලිමර් විද්යුත් ස්ථිතික චක් / තාපකය
පොලිමර් පාර විද්යුත් ද්‍රව්‍ය (පොලිමර්) දැනට බහුලව භාවිතා වන විද්යුත් ස්ථිතික චක් ද්‍රව්‍ය වන අතර, එය සකස් කිරීමේ ක්රියාවලිය වඩාත් පරිණත, බහු අවයවික පාර විද්යුත් ද්‍රව්‍ය වේ පොලිමර් වෙනස් කිරීමේ ප්‍රතිකාරයෙන් පසු, විද්යුත්, යාන්ත්‍රික, උෂ්ණත්ව ප්රතිරෝධය, හැලජන් ප්රතිරෝධක ගුණාංග බෙහෙවින් වැඩි දියුණු වනු ඇත. පාර විද්යුත් ද්‍රව්‍ය වෙනත් ඒකාබද්ධ ක්‍රියාකාරකම් මගින් රටා සකස් කර ඇති අතර පසුව බහුඅදියර රික්තක අධික බරක් මගින් ස්ථර කර ඇති අතර අභ්යන්තර ඉලෙක්ට්රෝඩ අතර ඝන පාර විද්යුත් පරිවාරක තට්ටුවක් සාදනු ලැබේ.
පොලිමර් විද්යුත්ස්ථිතික චක්
පොලිමර් වෙනස් කිරීමේ තාක්ෂණය වැඩි තොග ප්රතිරෝධයක් සහ සාපේක්ෂ පාර විද්යුත් නියතයක් ලබා ගැනීමට සහ වඩාත් ස්ථායී කලම්ප බලයක් ලබා ගැනීමට භාවිතා කරයි.
අධික ඝනත්ව පාර විද්යුත් ද්‍රව්‍ය මගින් අංශු ද්‍රව්‍ය අවදානම අඩු කර අයන සංචලනය අඩු කළ හැක.
කලම්ප වස්තූන්ගේ විවිධත්වය විවිධ ද්‍රව්‍යවල වේෆර් කලම්ප සමඟ අනුකූල විය හැකිය.
හැලජන් සහ ප්ලාස්මා වායුගෝලයේ විශිෂ්ට විඛාදන ප්රතිරෝධය.
ඉහළ පිරිවැය කාර්ය සාධනය, කෙටි පිළිගැනීමේ කාලය, නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය සහ නව උපකරණ සංවර්ධන සත්‍යාපනය සඳහා සුදුසු වේ.
තාපකය සමඟ බහු අවයවීය විද්යුත් චක්
එයට බහු තාපන උෂ්ණත්ව කලාපවල (උෂ්ණත්ව කලාප 20 දක්වා) සැකැස්ම අවබෝධ කර ගත හැකි අතර හොඳ තාපන උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වයක් (±5%℃@150℃) ඇත.
රික්තක ලැමිෙන්ටින් තාක්ෂණය අතිශයින් ඉහළ ඝනත්වය සහ 200 ° C දක්වා උනුසුම් උෂ්ණත්වය ලබා ගැනීම සඳහා භාවිතා වේ.
පුළුල් පරාසයක උෂ්ණත්ව වක්‍ර සැකසුම් සහිත ඒකාකාර තාපන වක්‍රය.
ඉහළ පිරිවැය කාර්ය සාධනය, කෙටි පිළිගැනීමේ කාලය, නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය සහ නව උපකරණ සංවර්ධන සත්‍යාපනය සඳහා සුදුසු වේ.
පිඟන් භාණ්ඩ විද්යුත් ස්ථිතික චක් / තාපකය
සෙරමික් කැටි ගැසීමේ තාක්ෂණය යනු ඇලුමිනා/ඇලුමිනියම් නයිට්‍රයිඩ් සෙරමික් විද්යුත් ස්ථිතික චක් සහ හීටර සංවර්ධනය කිරීමේදී වැඩිදියුණු කරන ලද සින්ටර් කිරීමේ ක්‍රියාවලියකි. එහි හරය වන්නේ අද්විතීය මිශ්‍ර කිරීමේ උපකරණ සහ මිශ්‍ර කිරීමේ ක්‍රියාවලියක් හරහා යම් ප්‍රමාණයකට මිශ්‍ර කරන විවිධ නැනෝමීටර විෂ්කම්භයකින් යුත් සෙරමික් කුඩු භාවිතා කිරීමයි. අධික ඝනත්වය, ස්ථායී ස්ඵටික ව්යුහය සහ ඒකාකාර ප්රතිරෝධක ව්යාප්තිය සහිත සෙරමික් විද්යුත් ස්ථිතික කුට්ටි සින්ටර් කිරීමේ උපකරණවල යම් සින්ටර් කිරීමේ උෂ්ණත්ව වක්‍රයක් සමඟ සින්ටර් කර ඇත. සෙරමික් කැටි ගැසීමේ තාක්‍ෂණයෙන් නිෂ්පාදනය කරන ලද ස්ථිතික චක්‍රය ඉහළ ඝනත්වයක්, ස්ථායී ස්ඵටික ව්යුහයක් සහ ඒකාකාර පරිමාවේ ප්රතිරෝධක ව්‍යාප්තියක් ඇති අතර, අධික රික්තය, ප්ලාස්මා සහ හැලජන් යටතේ කටුක පරිසරය තුළ චිපයේ සාමාන්‍ය කලම්ප ක්‍රියාකාරිත්වය අවබෝධ කර ගත හැකිය.
Al₂O₃ විද්යුත්ස්ථිතික චක්
පරිමාව ප්රතිරෝධය පාලනය කරනු ලබන්නේ කැටි ගැසීමේ සෙරමික් තාක්ෂණය සහ සම-වෙඩි තැබීමේ ක්රියාවලිය මගින් දිගු රඳවා ගැනීමේ බලයක් ලබා ගැනීම සඳහා ය.
ඉහළ උෂ්ණත්ව සින්ටර් කිරීමේ අභ්යන්තර ව්යුහය ඝන සහ ස්ඵටික ව්යුහය ස්ථායී වන අතර, විශාල උෂ්ණත්ව අන්තරයක රඳවා ගැනීමේ ධාරිතාව ලබා ගත හැකිය.
ඒකාබද්ධ සම-වෙඩි තැබීම අයන සංක්‍රමණය අඩු කරයි.
ප්ලාස්මා හැලජන් රික්ත වායුගෝලයේ කල් පවතින ක්‍රියාකාරිත්වය.
AlN විද්යුත් ස්ථිතික චක්
කොන්ක්රීට් ද්‍රව්‍යයේ සංයුතිය හා සමානුපාතය පාලනය කිරීමෙන් පරිමාව ප්රතිරෝධය පාලනය කළ හැකි අතර විශාල උෂ්ණත්ව අන්තරයක රඳවා ගැනීමේ හැකියාව ලබා ගත හැක.
ඒකාකාර උෂ්ණත්ව කලාප ව්යාප්තිය කොන්ක්රීට් සෙරමික් වල සින්ටර් කිරීමේ තාක්ෂණය සහ සම-වෙඩි තැබීමේ ක්රියාවලිය මගින් සහතික කෙරේ.
නිෂ්පාදනයේ ගුණාත්මකභාවය උපරිම කිරීම සඳහා ඒකාබද්ධ සම-වෙඩි තැබීම.
ප්ලාස්මා හැලජන් රික්ත වායුගෝලයේ කල් පවතින ක්‍රියාකාරිත්වය.
තාපකයක් සහිත පිඟන් භාණ්ඩ විද්යුත්ස්ථිතික චක්
එයට බහු තාපන උෂ්ණත්ව කලාපවල පිරිසැලසුම අවබෝධ කර ගත හැකි අතර හොඳ තාපන උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වයක් (±7.5%℃@350℃) ඇත.
රික්තක ලැමිනේටින් සින්ටර් කිරීමේ තාක්ෂණය 550℃ දක්වා අතිශය ඉහළ ඝනත්වය සහ උනුසුම් උෂ්ණත්වය ලබා ගැනීමට භාවිතා කරයි.
නිෂ්පාදනයේ ගුණාත්මකභාවය උපරිම කිරීම සඳහා ඒකාබද්ධ සම-වෙඩි තැබීම.
ප්ලාස්මා හැලජන් රික්ත වායුගෝලයේ කල් පවතින ක්‍රියාකාරිත්වය.
සංකීර්ණ ආකාරයේ විද්යුත් ස්ථිතික චක් / තාපකය
සිලිකන්, ගැලියම් ආසනයිඩ්, සිලිකන් කාබයිඩ්, වේෆර් කලම්ප නිල් මැණික් සමඟ අනුකූල විය හැකිය, උපකරණ නිෂ්පාදකයින්ගේ සහ අවසාන පරිශීලකයින්ගේ වයර් වෙනස් කිරීමේ පිරිවැය අඩු කළ හැකිය. කොන්ක්රීට් සෙරමික් තාක්ෂණය සහ පොලිමර් වෙනස් කිරීමේ තාක්ෂණය මත පදනම්ව, ඒකාබද්ධ රික්ත ලැමිනේෂන් සහ උණුසුම් බන්ධන තාක්ෂණය භාවිතයෙන් විද්යුත් ස්ථිතික උරාබීමේ අභ්යන්තර තාප ප්රතිරෝධය අඩු කළ හැකිය, අභ්යන්තර උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වය ළඟා කර ගත හැකිය, අයන සංක්‍රමණ ප්රතිරෝධක ක්‍රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා ඝන පාර විද්යුත් පරිවාරක තට්ටුවක් සෑදිය හැකිය.
සංකීර්ණ ආකාරයේ විද්යුත් ස්ථිතික චක්
කොන්ක්රීට් සෙරමික් සහ පොලිමර් වෙනස් කිරීමේ තාක්ෂණය භාවිතා කිරීම, ඉහළ ඝන ව්යුහයක් සහ අඩු වායු නිදහස් කිරීමක් ඇත.
පාර විද්යුත් ස්ථරය හා ඉලෙක්ට්රෝඩ බැංකු ඝණකම දැඩි පාලනය.
කලම්ප වස්තූන්ගේ විවිධත්වය විවිධ වේෆර්වල කලම්ප සමඟ අනුකූල විය හැකිය.
ශක්තිමත් විද්යුත් ස්ථිතික රඳවා ගැනීමේ ධාරිතාවක් ලබා ගැනීම සඳහා ශරීරයේ ප්රතිරෝධය නිවැරදිව පාලනය කළ හැකිය.
ඉහළ පිරිවැය කාර්ය සාධනය, කෙටි පිළිගැනීමේ කාලය, නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය සහ නව උපකරණ සංවර්ධන සත්‍යාපනය සඳහා සුදුසු වේ.
තාපකය සමඟ සංකීර්ණ ආකාරයේ විද්යුත් චක්
එයට බහු තාපන උෂ්ණත්ව කලාපවල පිරිසැලසුම අවබෝධ කර ගත හැකි අතර හොඳ තාපන උෂ්ණත්ව ඒකාකාරිත්වයක් (±3.5%℃@150℃) ඇත.
රික්තක ලැමිෙන්ටින් තාක්ෂණය අතිශයින් ඉහළ ඝනත්වය සහ 200 ° C දක්වා උනුසුම් උෂ්ණත්වය ලබා ගැනීම සඳහා භාවිතා වේ.
පුළුල් පරාසයක උෂ්ණත්ව වක්‍ර සැකසුම් සහිත ඒකාකාර තාපන වක්‍රය.
ඉහළ පිරිවැය කාර්ය සාධනය, කෙටි පිළිගැනීමේ කාලය, නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලි සංවර්ධනය සහ නව උපකරණ සංවර්ධන සත්‍යාපනය සඳහා සුදුසු වේ.