Напівпровідниковий прецизійний керамічний вакуумний патрон

Вакуумний патрон з пористої кераміки герметизований повітрям для підтримки передачі, і застосування пристрою обмежене роботою на платформах з плоскими непористими поверхнями. Користувачем зазвичай є оператор машини. У сфері металообробки це безпечна та надійна передача заготовки.

Автоматичне перенесення навантаження, поглинання об’єкта, позиціонування, точний стіл для трафаретного друку, використання пористої кераміки (глинозему або карбіду кремнію), підключеного до вакуумного всмоктування, робочий об’єкт (включаючи пластину, скло, ПЕТ-плівку чи інший тонкий робочий об’єкт), розміщений на керамічний робочий патрон, використання вакуумного всмоктування для фіксації робочого об’єкта, очищення, різання, шліфування, трафаретного друку та інші процедури обробки.

Мікропористий вакуумний керамічний робочий диск - це спеціальний інструмент для адсорбції та опори в процесі виробництва різних напівпровідникових листів, який використовується в процесах тоншення, скрайбування, очищення та обробки. Робочу плиту виробництва Singapore Fountyl Technologies PTE Ltd можна використовувати з обладнанням з Японії, Німеччини, Ізраїлю, Сполучених Штатів і вітчизняним з чудовою продуктивністю та ціною.

Singapore Fountyl Technologies PTE Ltd є Спеціалізується на виробництві та обробці керамічного оксиду алюмінію, цирконію, нітриду кремнію та карбіду кремнію. Сильна технічна сила, гарне обладнання, багатий досвід обробки. Існуюча низка прецизійного обладнання з ЧПК, прецизійних верстатів, різноманітних провідних технологій обробки та інструментів обробки, а також оснащено різноманітними приладами для точного тестування для забезпечення точності якості продукції. За кресленнями замовника виготовлення, обробка різних специфікацій, видів прецизійних керамічних деталей. Продукти мають високу точність і хорошу продуктивність, і широко використовуються в напівпровідникових, фотоелектричних, точних машинах, військових, медичних і наукових дослідженнях.

Тип патрона: мікропориста кераміка

Основні характеристики: площинність, паралельність, щільна і однорідна текстура, висока міцність, хороша проникність і адсорбція.

Може виробляти: 2, 3, 4, 5, 6, 8, 12-дюймові напівпровідникові мікросхеми