Các phương pháp phát triển wafer phổ biến

Quá trình phát triển wafer là một bước thiết yếu trong quy trình in thạch bản và đã trải qua nhiều thập kỷ đổi mới và tiến bộ. Vậy có bao nhiêu phương pháp phát triển phổ biến? Các loại nhà phát triển là gì? Cơ chế phát triển là gì? Các yếu tố kiểm soát chính cho sự phát triển là gì?

Phát triển là gì?

Phát triển photoresist (phát triển photoresist) là việc áp dụng giải pháp dành cho nhà phát triển cho chất quang dẫn sau khi tiếp xúc. Chất hiện hình là một dung môi hóa học rửa sạch phần tiếp xúc hoặc không tiếp xúc của chất quang dẫn để có được hoa văn mong muốn trên tấm bán dẫn. Cụ thể: Ở keo dương, phần tiếp xúc bị cuốn trôi trong quá trình phát triển. Trong keo âm, phần không được phơi sáng sẽ bị cuốn trôi trong quá trình phát triển.

Cơ chế phát triển của nhà phát triển

Cao su tích cực

Khi chất kết dính dương tiếp xúc, phản ứng quang hóa của nhóm cảm quang sẽ tạo ra nhóm axit, giải phóng nitơ và nhóm axit sẽ phản ứng với chất phát triển và cấu trúc của chất quang dẫn sẽ bị phá hủy, do đó chất quang dẫn sau khi tiếp xúc sẽ bị phá hủy. Cuốn trôi. Bởi vì chất quang dẫn sau khi tiếp xúc có chứa nhiều nhóm axit nên chất hiện hình thường là dung dịch có tính kiềm nhẹ.

kẹo cao su tiêu cực

Khi chất dính âm được lộ ra, do phản ứng của các nhóm cảm quang, các phân tử polymer trong chất cảm quang sẽ liên kết chéo thành một cấu trúc mạng, làm cho chất cảm quang được phơi ra có cấu trúc ổn định hơn và ít hòa tan hơn. Nhà phát triển hòa tan chất quang dẫn không phơi sáng (không liên kết ngang), trong khi chất quang dẫn ở khu vực tiếp xúc vẫn không thay đổi.

Phương pháp phát triển chung

Phát triển ngâm:

Hoạt động: Trong quá trình phát triển nhúng, wafer được nhúng hoàn toàn vào máy phát triển trong một khoảng thời gian cố định. Ưu điểm: Quá trình này rất đơn giản. Đạt được sự phát triển đồng đều vì toàn bộ tấm wafer được nhà phát triển bao phủ đồng đều. Nó thường được sử dụng trong môi trường phòng thí nghiệm và nghiên cứu vì dễ thực hiện và không yêu cầu thiết bị phức tạp.

Nhược điểm: Không phù hợp cho sản xuất hàng loạt vì cần số lượng lớn nhà phát triển. Nhà phát triển có thể bị nhiễm bẩn, đặc biệt nếu nhiều tấm bán dẫn được phát triển liên tiếp. Các yếu tố kiểm soát: nhiệt độ, thời gian, nồng độ, tính lưu động của chất hiện. Cùng một nhà phát triển, nhiệt độ càng cao thì nồng độ càng lớn, khuấy càng mạnh thì tốc độ phát triển càng nhanh.

Phát triển phun:

Vận hành: Quá trình phát triển dạng phun sử dụng thiết bị chuyên dụng để phun chất trợ ảnh đều lên bề mặt wafer dưới dạng nguyên tử hóa. Ưu điểm: Hiệu quả cao và tiết kiệm cho nhà phát triển. Bởi vì chỉ có một lượng chất trợ dung cần thiết được phun lên tấm bán dẫn nên sẽ có rất ít chất thải. Nó có thể mang lại hiệu ứng phát triển rất đồng đều và tấm bán dẫn được phun và quay trong khi phát triển. Nó phù hợp hơn cho sản xuất hàng loạt vì nó có thể xử lý nhiều tấm wafer một cách nhanh chóng và liên tục.

Nhược điểm: Cần có thiết bị phức tạp hơn và kiểm soát thông số quy trình tinh tế hơn để đảm bảo rằng quá trình phun được đồng đều. Nếu phun không đồng đều có thể dẫn đến kết quả phát triển không nhất quán. Các yếu tố kiểm soát: nhiệt độ, thời gian, nồng độ, áp suất phun, tốc độ dòng chảy, tốc độ wafer, v.v.

Loại nhà phát triển

Nhà phát triển tích cực:TMAH, NaOH, AZ 400K, AZ 826 MIF, AZ ECI 3027

Chất quang điện âm tương đương:Nhà phát triển AZ 326 MIF, Nhà phát triển AZ 726 MIF, Nhà phát triển AZ 826 MIF, v.v.

Danh sách trên chỉ là nhà phát triển thông thường, nói chung tùy theo chất quang dẫn khác nhau, độ phân giải khác nhau, độ dày chất kết dính khác nhau để chọn nhà phát triển thích hợp.

Fountyl Technologies PTE Ltd, đang tập trung vào ngành sản xuất chất bán dẫn, các sản phẩm chính bao gồm: Mâm cặp chốt, mâm cặp gốm xốp, bộ tác động cuối bằng gốm, dầm vuông gốm, trục chính bằng gốm, vui lòng liên hệ và đàm phán!