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Branchennachrichten

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Herstellung der Keramikaufschlämmung: Kugelmahlen

Herstellung der Keramikaufschlämmung: Kugelmahlen

04.05.2024

Beim Kugelmahlen handelt es sich um ein Mahlverfahren, bei dem hauptsächlich die Kugel als Medium verwendet wird und Stöße, Extrusion und Reibung eingesetzt werden, um die Zerkleinerung von Materialien zu erreichen.


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Keramikformulierung: Partikelgröße

Keramikformulierung: Partikelgröße

26.04.2024

Die Keramikformel bezieht sich darauf, dass bei der Konfiguration von Rohstoffen unterschiedlicher Form und unterschiedlicher Partikelgröße die physikalischen und chemischen Eigenschaften der Endprodukte unter den entsprechenden Bedingungen des Keramikproduktionsprozesses und der Brennbedingungen den Anforderungen entsprechen.

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10 gängige Begriffe aus der Waferindustrie

10 gängige Begriffe aus der Waferindustrie

05.05.2024

Ein Wafer beginnt mit dem Kristallwachstum

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Sprühgranulierung von Keramikpulver

Sprühgranulierung von Keramikpulver

04.05.2024

Die Sprühgranulierung von Keramikpulver ist ein spezielles Granulierverfahren, das hauptsächlich zur Aufbereitung von Keramikpulver eingesetzt wird.

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Funktionskeramik: Schlüsselmaterialien im Bereich der modernen Wissenschaft und Technologie

Funktionskeramik: Schlüsselmaterialien im Bereich der modernen Wissenschaft und Technologie

03.05.2024

Funktionskeramik ist eine Art fortschrittliches Material, das Licht, Wärme, Kraft, Schall, Magnetismus, Elektrizität und andere direkte Effekte und Kopplungseffekte nutzt.



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Ein wesentliches Element bei der Chipherstellung – Plasma

Ein wesentliches Element bei der Chipherstellung – Plasma

03.05.2024

Plasma wurde erstmals 1879 von William Crookes entdeckt und 1929 von Irving Langmuir „Plasma“ genannt. Die Anwendung von Plasma in der Chipherstellung ist sehr verbreitet und wichtig, man kann sagen, dass ohne Plasma die Chipherstellung nicht möglich wäre. Plasma ist fast immer beim Trockenätzen, PVD, CVD, Waferoberflächenmodifikation und Lithographie beteiligt.

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Ein notwendiges Element bei der Chipherstellung – Vakuum

Ein notwendiges Element bei der Chipherstellung – Vakuum

02.05.2024

Vakuum ist in der Halbleiterherstellung sehr wichtig. In der Halbleiterindustrie wird die Vakuumumgebung in verschiedenen Prozessen verwendet. Dazu gehören die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und die Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition). ALD, Ionenimplantation, Plasmaätzen usw.

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Die zehn größten Halbleiterunternehmen der Welt und ihre größte technische Stärke

Die zehn größten Halbleiterunternehmen der Welt und ihre größte technische Stärke

01.05.2024

Hier sind die zehn größten Halbleiterunternehmen der Welt nach Marktkapitalisierung und Umsatz.


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Warum kann das Ofenrohr-Siliziumkarbidschiffchen nicht trocken gereinigt werden?

Warum kann das Ofenrohr-Siliziumkarbidschiffchen nicht trocken gereinigt werden?

29.04.2024

SiC-Boot ist ein Siliziumkarbid-Boot. Im Ofenrohr wird ein Siliziumkarbidschiffchen verwendet, das mit Wafern für die Hochtemperaturbehandlung von Hochtemperaturzubehör beladen ist. Da Siliziumkarbidmaterial eine hohe Temperaturbeständigkeit, chemische Korrosionsbeständigkeit und gute thermische Stabilität aufweist, wird es häufig in verschiedenen Wärmebehandlungsprozessen wie Diffusion, Oxidation, CVD, Glühen usw. verwendet.

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Gelspritzguss von Siliziumkarbidkeramik

Gelspritzguss von Siliziumkarbidkeramik

28.04.2024

Das Gelsystem ist die Kernkomponente der Gelspritzgusstechnologie und seine Auswahl wirkt sich direkt auf die Leistung des Endprodukts aus. Zu den häufig verwendeten Gelsystemen gehören organische Gele, anorganische Gele und Verbundgele. Bei der Auswahl eines Gelsystems müssen dessen Stabilität, Viskosität, Aushärtungsgeschwindigkeit und Anpassungsfähigkeit an das spezifische Material berücksichtigt werden.



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