Wozu dient ein Siliziumoxidfilm (SiO2)?

Der gesamte Halbleiterherstellungsprozess ist sehr verbreitet und unverzichtbar. Wozu dient er?

Physikalische und chemische Eigenschaften von Siliziumoxid?

Siliziumoxid (SiO2) liegt in der Natur meist in Form von Quarzkristallen vor, im Halbleiterherstellungsprozess CVD oder PVD jedoch in amorpher Form. Hohe Härte, hoher Schmelzpunkt, ausgezeichnete chemische Stabilität, nahezu keine Reaktion mit anderen Chemikalien, gute Isolationsleistung, niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient.

Die Anwendung von Siliziumoxidfilmen in der Halbleiterfertigung?

1. Wird als Maskenschicht zum Ätzen, Diffusion und Ionenimplantation verwendet; Als Ätzmaske weist Siliziumoxid eine hohe Selektivität auf und reagiert nicht mit Chemikalien und Gasen. Als Diffusions- und Ionenimplantationsmaske verhindert sie die Diffusion von dotierten Substanzen wie Bor und Phosphor in andere Bereiche des Siliziumwafers, sodass die Grenze des Dotierungsbereichs präzise gesteuert werden kann;

2, verwendet als Isoliermedium (Isolation, Isoliergitter, mehrschichtige Verkabelungsisolierung, kapazitive Medien usw.); Als Isolationsschicht trägt sie dazu bei, das Übersprechen zwischen verschiedenen Teilen zu reduzieren; Als Gate-Oxidschicht kann sie die Gate-Spannung effektiv steuern, um den Träger des Kanals zu regulieren und so den durch den Transistor fließenden Strom zu steuern. Als dielektrische Schicht dient sie dazu, die Metallschichten zwischen verschiedenen Schichten zu isolieren, wodurch Stromlecks und Kurzschlüsse verhindert werden können.

3, verwendet für Oberflächenschutz und Passivierung. Siliziumoxidfolien können als Schutzschicht auf der Oberfläche empfindlicher Materialien eingesetzt werden, um diese vor äußerer Feuchtigkeit, Schadstoffen und chemischer Korrosion zu schützen. Als Passivierungsschicht zur Verbesserung der chemischen und elektrischen Eigenschaften von Halbleiteroberflächen. Es kann die Aktivität von Oberflächenatomen wirksam verhindern, Oberflächendefekte reduzieren und die elektrische Leistung des Geräts verbessern.

Fountyl Technologies PTE Ltd konzentriert sich auf die Halbleiterfertigungsindustrie. Zu den Hauptprodukten gehören: Stiftfutter, poröses Keramikfutter, Keramik-Endeffektor, Keramik-Vierkantbalken, Keramikspindel. Willkommen bei Kontakt und Verhandlung!