Top-Hersteller von Siliziumnitrid: Innovative Herstellungsverfahren

Verwandte Produkte

PEEK-Material mit technischem Hochleistungskunststoff mit ausgezeichneter Hitzebeständigkeit, chemischer Beständigkeit, mechanischer Festigkeit und Dimensionsstabilität

Quarzglas, geschmolzen mit verschiedenen Arten von reinem Naturquarz

Aluminium-Siliziumkarbid-Keramik für die Bereiche Luft- und Raumfahrt, Automobil, Militär, Elektronik und Sportgeräte

Mikroporöses Keramik-Vakuumfutter

Berylliumoxidkeramik mit hoher Wärmeleitfähigkeit und geringem Verlust

Quadratischer Träger und Führungsschiene für hochpräzise Bewegungsplattform und Erkennungsausrüstung

Poröse Keramik mit hoher Temperaturbeständigkeit, hoher Festigkeit und guter chemischer Stabilität

Die meistverkauften Produkte

Aluminium-Siliziumkarbid-Strukturteil für die Luft- und Raumfahrt, Marineschiffe, den Schienenverkehr und den Bereich neue Energiefahrzeuge

Hochpräziser Keramikkolben für neue Energie- und Medizinbereiche

Keramische Strukturteile (Keramikteile)

Strukturteil aus Quarzglas für Halbleiter, Optik, optische Kommunikation, Photovoltaik und LED-Bereich

Berylliumoxid-Keramikteile für Automobile, Halbleiter und große integrierte Schaltkreise

Zirkonoxid wird für verschleißfeste und hitzebeständige Teile verwendet

Verwandter Blog

Halbleiterprozessausrüstung: Waferherstellung

Der Herstellungsprozess von Wafern: Die Umwandlung von Sand in Siliziumwafer, auf denen Linien eingraviert werden können, ist ein komplexer und langwieriger Prozess.

Das Prinzip der chemisch-mechanischen Polierausrüstung von CMP und die Einführung in- und ausländischer Gerätehersteller

Chemisch-mechanisches Polieren (CMP) ist eine Technik, die bei der Herstellung von Chips mit integrierten Schaltkreisen verwendet wird, um eine Ebenheit der Waferoberfläche zu erreichen