Métodos comunes de desarrollo de obleas

El proceso de desarrollo de obleas es un paso esencial en el proceso de litografía y ha sido objeto de décadas de innovación y avances. Entonces, ¿cuántos métodos de desarrollo comunes existen? ¿Cuáles son los tipos de desarrollador? ¿Cuál es el mecanismo de desarrollo? ¿Cuáles son los principales factores que controlan el desarrollo?

¿Qué es el desarrollo?

El revelado de fotorresistente (revelado de fotorresistente) es la aplicación de una solución reveladora a un fotorresistente después de la exposición. El revelador es un disolvente químico que elimina la parte expuesta o no expuesta del fotoprotector para obtener el patrón deseado en la oblea. Específicamente: en el pegamento positivo, la parte expuesta se elimina durante el revelado. En el caso del pegamento negativo, la parte no expuesta se elimina durante el revelado.

Mecanismo de desarrollo del desarrollador.

Goma positiva

Cuando se expone el adhesivo positivo, la reacción fotoquímica del grupo fotosensible generará un grupo ácido, liberará nitrógeno y el grupo ácido reaccionará con el revelador, y la estructura del fotorresistente se destruirá, por lo que el fotorresistente después de la exposición será lavado. Debido a que el fotorresistente después de la exposición contiene muchos grupos ácidos, el revelador es generalmente una solución ligeramente alcalina.

chicle negativo

Cuando el adhesivo negativo queda expuesto, debido a la reacción de los grupos fotosensibles, las moléculas de polímero en el fotorresistente se entrecruzarán en una estructura de red, haciendo que el fotorresistente expuesto sea estructuralmente más estable y menos soluble. El revelador disuelve el fotorresistente no expuesto (no reticulado), mientras que el fotorresistente en el área expuesta permanece sin cambios.

Métodos de desarrollo comunes

Desarrollo de inmersión:

Operación: En el desarrollo por inmersión, la oblea se sumerge completamente en el revelador durante un período de tiempo fijo. Ventajas: El proceso es sencillo. Se logra un desarrollo uniforme porque el revelador cubre uniformemente toda la oblea. Se utiliza comúnmente en entornos de laboratorio y de investigación porque es fácil de implementar y no requiere equipos complejos.

Desventajas: No apto para producción en masa, porque se requiere una gran cantidad de revelador. El revelador puede estar contaminado, especialmente si se revelan varias obleas consecutivamente. Factores de control: temperatura, tiempo, concentración, fluidez del revelador. El mismo revelador, cuanto mayor es la temperatura, mayor es la concentración, cuanto más intensa es la agitación, más rápida es la velocidad de desarrollo.

Desarrollo de pulverización:

Operación: El desarrollo por pulverización utiliza equipo especializado para rociar el revelador uniformemente sobre la superficie de la oblea en forma de atomización. Ventajas: Alta eficiencia y ahorro para desarrolladores. Debido a que solo se rocía la cantidad necesaria de revelador sobre la oblea, se produce poco desperdicio. Puede proporcionar un efecto de desarrollo muy uniforme y la oblea se rocía y gira mientras se desarrolla. Es más adecuado para la producción en masa porque puede procesar múltiples obleas de forma rápida y continua.

Desventajas: Se requieren equipos más complejos y un control de parámetros de proceso más refinado para garantizar que la pulverización sea uniforme. Si la pulverización no es uniforme, puede producir resultados de desarrollo inconsistentes. Factores de control: temperatura, tiempo, concentración, presión de pulverización, caudal, velocidad de la oblea, etc.

Tipo de desarrollador

Desarrollador positivo:TMAH, NaOH, AZ 400K, AZ 826 MIF, AZ ECI 3027

Fotorresistente equinonegativo:Desarrollador AZ 326 MIF, Desarrollador AZ 726 MIF, Desarrollador AZ 826 MIF, etc.

La lista anterior es solo el revelador común, generalmente de acuerdo con diferentes fotorresistentes, diferentes resoluciones y diferentes espesores de adhesivo para elegir el revelador apropiado.

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