پولیش مکانیکی شیمیایی (CMP) تکنیکی است که در ساخت تراشههای مدار مجتمع برای دستیابی به صافی سطح ویفر استفاده میشود.
فرآیند توسعه ویفر یک مرحله اساسی در فرآیند لیتوگرافی است و چندین دهه نوآوری و پیشرفت را پشت سر گذاشته است. بنابراین چند روش توسعه رایج وجود دارد؟ چی هستن...