माइक्रोपोरस सिरेमिक चक के गुण
उच्च घनत्व सिरेमिक वैक्यूम चक (छिद्रपूर्ण सिरेमिक वैक्यूम चक), 2 से 3 माइक्रोन के छिद्र आकार के साथ एक विशेष छिद्रपूर्ण सिरेमिक सामग्री, ब्लॉक करना आसान नहीं है, उच्च वैक्यूम बल, क्षेत्र सोखना का हिस्सा है, लेकिन इसका उपयोग एक के रूप में भी किया जा सकता है एयर फ्लोटिंग प्लेटफ़ॉर्म, अर्धचालक, पैनल, लेजर प्रक्रिया और गैर-संपर्क रैखिक स्लाइड में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।
अर्धचालकों का प्रमुख घटक - सिरेमिक चक और वैश्विक बाजार का परिचय।
इलेक्ट्रोस्टैटिक सकर, जिसे इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ईएससी, ई-चक) के रूप में भी जाना जाता है, एक फिक्स्चर है जो सोखने वाली वस्तु को पकड़ने और ठीक करने के लिए इलेक्ट्रोस्टैटिक सोखना के सिद्धांत का उपयोग करता है, जो वैक्यूम और प्लाज्मा वातावरण के लिए उपयुक्त है।
सिलिकॉन कार्बाइड वेफर काटने के प्रकार
सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) को इसके विस्तृत बैंड गैप, उच्च यांत्रिक शक्ति और उच्च तापीय चालकता के कारण इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में सिलिकॉन (Si) आधारित अर्धचालकों के लिए एक वैकल्पिक सामग्री माना जाता है। SiC बिजली उपकरण उच्च वोल्टेज, आवृत्तियों और तापमान पर काम करते हैं, और उच्च दक्षता या कम बिजली हानि के साथ बिजली परिवर्तित करने में सक्षम होते हैं।
उच्च शुद्धता ग्रेफाइट - तीसरी पीढ़ी के अर्धचालक क्षेत्र में एक प्रमुख उपभोज्य
उच्च शुद्धता वाले ग्रेफाइट में उच्च तापमान प्रतिरोध, अच्छी विद्युत चालकता और रासायनिक स्थिरता होती है, और यह अर्धचालक क्षेत्र में एक महत्वपूर्ण सामग्री बन गई है।
2024 की पहली तिमाही में 144 टेक कंपनियों ने लगभग 35,000 कर्मचारियों को नौकरी से निकाल दिया।
19 फरवरी को, सिस्को ने कहा कि वह कठिन आर्थिक परिस्थितियों के कारण अपने वैश्विक कार्यबल में 5% की कटौती करेगा, 4,000 से अधिक कामकाजी पदों में कटौती करेगा और अपने वार्षिक राजस्व लक्ष्य को कम करेगा।
लिथोग्राफी मशीनों के लिए सटीक सिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिक घटक
एकीकृत सर्किट निर्माण की प्रमुख प्रौद्योगिकियों और उपकरणों में मुख्य रूप से लिथोग्राफी प्रौद्योगिकी और लिथोग्राफी उपकरण, फिल्म विकास प्रौद्योगिकी और उपकरण, रासायनिक यांत्रिक पॉलिशिंग प्रौद्योगिकी और उपकरण, उच्च-घनत्व पोस्ट-पैकेजिंग प्रौद्योगिकी और उपकरण शामिल हैं, सभी में गति नियंत्रण प्रौद्योगिकी और उच्च के साथ ड्राइव प्रौद्योगिकी शामिल है। दक्षता, उच्च परिशुद्धता और उच्च स्थिरता। संरचनात्मक भागों की सटीकता और संरचनात्मक सामग्रियों के प्रदर्शन की बहुत अधिक आवश्यकताएं हैं।
सेमीकंडक्टर उपकरण का एक प्रमुख घटक एल्यूमीनियम नाइट्राइड सिरेमिक हीटर का परिचय
वेफर निर्माण प्रक्रिया में, वेफर को एक निश्चित तापमान तक गर्म करने की आवश्यकता होती है, और वेफर तापमान एकरूपता की बहुत सख्त आवश्यकता होती है, क्योंकि वेफर तापमान एकरूपता का अर्धचालक चिप्स की गुणवत्ता पर बहुत महत्वपूर्ण प्रभाव पड़ता है; साथ ही, वैक्यूम, प्लाज्मा, रासायनिक गैस वातावरण में काम करना भी आवश्यक है, जिसके लिए सिरेमिक हीटर के उपयोग की आवश्यकता होती है।
अर्धचालक परिशुद्धता सिरेमिक के अनुप्रयोग पर परिचय
सेमीकंडक्टर चिप्स हर जगह हैं, इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों के मस्तिष्क के बराबर, मोबाइल फोन, स्मार्ट घड़ियां, कंप्यूटर, कार, बड़ा डेटा, क्लाउड कंप्यूटिंग, इंटरनेट ऑफ थिंग्स को अपग्रेड किया जा सकता है, इसे इससे अलग नहीं किया जा सकता है। सेमीकंडक्टर उद्योग में, उन्नत सिरेमिक संपूर्ण सेमीकंडक्टर उद्योग की नींव की नींव है।
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हाल ही में सैन जोस में एक आमंत्रण-केवल कार्यक्रम से पहले एक विशेष साक्षात्कार में, इंटेल ने अपने भविष्य के डेटा सेंटर प्रोसेसर की एक झलक साझा करके अपने अनुबंध ग्राहकों को पेश की जाने वाली नई चिप प्रौद्योगिकियों की रूपरेखा तैयार की।
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वेफर फाउंड्री के क्षेत्र में, टीएसएमसी हमेशा उद्योग में अग्रणी रही है, और सैमसंग उद्योग में दूसरा सबसे बड़ा है, लेकिन दूसरे और सबसे पुराने के बीच का अंतर बहुत बड़ा है, टीएसएमसी की हिस्सेदारी 58.5% तक है, और सैमसंग की हिस्सेदारी केवल 15.8% है.