सिलिकॉन ऑक्साइड (SiO2) फिल्म का क्या उपयोग है?
संपूर्ण सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया बहुत सामान्य और अपरिहार्य है, इसका उपयोग किस लिए किया जाता है?
सिलिकॉन ऑक्साइड के भौतिक और रासायनिक गुण?
सिलिकॉन ऑक्साइड (SiO2) आमतौर पर प्रकृति में क्वार्ट्ज क्रिस्टल के रूप में मौजूद होता है, और सेमीकंडक्टर निर्माण प्रक्रिया में CVD या PVD अनाकार के रूप में मौजूद होता है। उच्च कठोरता, उच्च गलनांक, उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता, अन्य रसायनों के साथ लगभग कोई प्रतिक्रिया नहीं, अच्छा इन्सुलेशन प्रदर्शन, थर्मल विस्तार का कम गुणांक।
सेमीकंडक्टर निर्माण में सिलिकॉन ऑक्साइड फिल्म का अनुप्रयोग?
1. नक़्क़ाशी, प्रसार और आयन आरोपण के लिए मुखौटा परत के रूप में उपयोग किया जाता है; नक़्क़ाशी मास्क के रूप में, सिलिकॉन ऑक्साइड में उच्च चयनात्मकता होती है और यह रसायनों और गैसों के साथ प्रतिक्रिया नहीं करता है। प्रसार और आयन प्रत्यारोपण मास्क के रूप में, यह सिलिकॉन वेफर के अन्य क्षेत्रों में बोरान और फास्फोरस जैसे डोप किए गए पदार्थों के प्रसार को रोकता है, ताकि डोपिंग क्षेत्र की सीमा को सटीक रूप से नियंत्रित किया जा सके;
2, इन्सुलेशन मीडिया (आइसोलेशन, इन्सुलेशन ग्रिड, मल्टी-लेयर वायरिंग इन्सुलेशन, कैपेसिटिव मीडिया, आदि) के रूप में उपयोग किया जाता है; एक अलगाव परत के रूप में, यह विभिन्न भागों के बीच क्रॉसस्टॉक को कम करने में मदद करता है; गेट ऑक्साइड परत के रूप में, यह चैनल के वाहक को विनियमित करने के लिए गेट वोल्टेज को प्रभावी ढंग से नियंत्रित कर सकता है, ताकि ट्रांजिस्टर के माध्यम से बहने वाले वर्तमान को नियंत्रित किया जा सके। ढांकता हुआ परत के रूप में, इसका उपयोग विभिन्न परतों के बीच धातु की परतों को अलग करने के लिए किया जाता है, जो वर्तमान रिसाव और शॉर्ट सर्किट को रोक सकता है।
3, सतह की सुरक्षा और निष्क्रियता के लिए उपयोग किया जाता है। सिलिकॉन ऑक्साइड फिल्मों का उपयोग एक सुरक्षात्मक परत के रूप में किया जा सकता है, जो संवेदनशील सामग्रियों की सतह को बाहरी नमी, प्रदूषकों और रासायनिक संक्षारण से बचाने के लिए कवर करती है। अर्धचालक सतहों के रासायनिक और विद्युत गुणों में सुधार के लिए एक निष्क्रियता परत के रूप में। यह सतह के परमाणुओं की गतिविधि को प्रभावी ढंग से रोक सकता है, सतह के दोषों को कम कर सकता है और डिवाइस के विद्युत प्रदर्शन में सुधार कर सकता है।
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