Peralihan ke plasma berbasis hidrogen memastikan pengetsaan substrat GaN berkecepatan tinggi, dan para insinyur di Universitas Osaka di Jepang mengklaim telah membuat terobosan baru dalam menipiskan galium nitrida (GaN...
Selama lebih dari sepuluh tahun, litografi perendaman telah menjadi teknologi paparan utama dalam manufaktur semikonduktor.
