Penggiling cermin utama untuk semikonduktor perangkat CMP

Teknologi CMP (Chemical Mechanical Polishing) adalah proses utama untuk mencapai permukaan wafer yang seragam dan rata secara global dalam manufaktur semikonduktor. Ini menghilangkan kelebihan material dari permukaan wafer melalui aksi sinergis dari korosi kimia dan penggilingan mekanis untuk mencapai kerataan global pada skala nano. Proses CMP terdiri dari tiga langkah utama: pemolesan, pembersihan, dan pemindahan. Selama proses pemolesan, komposisi kimia cairan pemoles bereaksi dengan bahan permukaan wafer membentuk lapisan film yang dapat dihilangkan secara mekanis, dan bantalan pemoles kemudian secara mekanis menghilangkan lapisan film tersebut untuk mencapai permukaan yang halus. Perangkat CMP dapat dibagi menjadi perangkat kompatibel 8 inci, 12 inci, dan 6/8 inci sesuai dengan kebutuhan aplikasi.

Pasar dan perusahaan besar

Pasar utama peralatan CMP berasal dari tiga segmen, peralatan CMP untuk pembuatan wafer silikon, peralatan CMP untuk pengecoran wafer, dan peralatan CMP untuk pembuatan substrat silikon karbida. Dengan terus berkurangnya proses pembuatan sirkuit terpadu, permintaan akan proses CMP secara bertahap meningkat, terutama dalam pembuatan chip logika, jumlah langkah proses CMP dari node proses lanjutan meningkat secara signifikan. Pasar CMP terus berkembang ukurannya. Secara khusus, kapasitas produksi baru di daratan diperkirakan akan melebihi tingkat pertumbuhan pasar daratan.

Pasar peralatan CMP global sangat dimonopoli, terutama oleh Applied Materials, pemimpin pasar peralatan CMP global, yang menyediakan solusi CMP tingkat lanjut, dan produknya mencakup berbagai aplikasi mulai dari proses yang sudah matang hingga proses yang canggih. Ebara, Jepang, memiliki hak paten untuk teknologi dry-in/dry-out, dan produk-produknya terkenal dengan keandalan dan efisiensi produksi yang tinggi. Bersama-sama, mereka menguasai lebih dari 90% pasar.

Di bidang proses yang matang, perusahaan dalam negeri telah mematahkan monopoli raksasa asing dan memperoleh pangsa pasar tertentu. Produsen peralatan CMP dalam negeri terutama mencakup Huahai Qingke, yang telah merealisasikan penerapan industri proses 28nm, teknologi proses 14nm sedang diverifikasi, dan merupakan satu-satunya produsen yang dapat menyediakan peralatan CMP 12 inci di Tiongkok. Sco Precision menyediakan peralatan CMP untuk semua persyaratan proses perataan yang kompleks dalam pembuatan IC, mendukung produksi IC dari node proses 0,09-0,35um. Jingyi Precision, pemasok peralatan CMP 8 inci, meluncurkan peralatan produksi massal lini produksi CMP 8 inci domestik pertama dengan hak kekayaan intelektual independen. Hangzhou ZhongSI telah berhasil mengembangkan perangkat CMP 6 inci, 8 inci, dan 12 inci untuk sirkuit terpadu, wafer silikon besar, dan semikonduktor generasi ketiga.

PENDAPAT:

Peningkatan proses 1 chip, penerapan peralatan CMP akan lebih sering, ruang pasar, terutama ruang pasar domestik semakin berkembang

2. Teknologi peralatan dalam negeri terus meningkat, dan kematangan peralatan dalam negeri meningkat

3. Seperti kita ketahui bersama, ada beberapa perusahaan dalam negeri yang mampu melakukannya, pasar mulai bergulir, dan masa depan perusahaan teknologi terkemuka atau perusahaan yang membuka bidang aplikasi baru lebih layak untuk diharapkan.

Fountyl Technologies PTE Ltd, berfokus pada industri manufaktur semikonduktor, produk utama meliputi: Pin chuck, chuck keramik berpori, efektor ujung keramik, balok persegi keramik, spindel keramik, selamat datang untuk menghubungi dan negosiasi!