Plasma pertama kali ditemukan oleh William Crookes pada tahun 1879 dan diberi nama “plasma” oleh Irving Langmuir pada tahun 1929. Penerapan plasma dalam pembuatan chip sangatlah umum dan penting, dapat dikatakan...
Dalam rantai industri semikonduktor, khususnya pada rantai industri semikonduktor generasi ketiga (wide band gap semiconductor), akan terdapat lapisan substrat dan epitaksi, apa maknanya...
