化学機械研磨 (CMP) は、集積回路チップの製造でウェーハ表面の平坦性を達成するために使用される技術です。
シリコンは何十年にもわたってトランジスタの世界を支配してきました。 しかし、それは変わりつつあります。 2 つまたは 3 つの材料からなる化合物半導体が開発されており、独自の利点と優れた特性を備えています。
