半導体プロセス全体で繰り返し洗浄する必要があり、洗浄プロセスは半導体業界全体で行われており、全生産プロセスの 30% 以上を占めています。
ウェーハ開発プロセスはリソグラフィ プロセスの重要なステップであり、数十年にわたる革新と進歩を経てきました。 では、一般的な開発手法はいくつあるのでしょうか? それは何ですか...