情報技術の急速な発展と電子機器の高効率化への需要の高まりに伴い、炭化ケイ素(SiC)に代表される第3世代半導体材料が注目されています。
真空は半導体製造において非常に重要です。半導体産業では、真空環境は物理蒸着 (PVD)、化学蒸着などのさまざまなプロセスで使用されます。