![STMicroelectronics NV、世界初の完全統合型炭化ケイ素工場をイタリアに建設](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-06/picture-2-16.png)
STMicroelectronics NV、世界初の完全統合型炭化ケイ素工場をイタリアに建設
2024-06-18
世界有数の半導体サプライヤーであるSTマイクロエレクトロニクスは、イタリアのカターニアにパワーデバイスとモジュール、テストとパッケージングのための新しい200mm炭化ケイ素(「SiC」)大量生産施設を建設すると発表した。
![深紫外光を利用して通信の発展を促進](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-06/picture-1-52.png)
3D半導体ロードマップを発表
2024-06-17
SEMICONDUCTOR RESEARCH CORPORATION (SRC) は、産学官の 112 組織の約 300 人の共同作業によって開発されたマイクロエレクトロニクスおよびアドバンスト パッケージング (MAPT) ロードマップを発表しました。
![ウェーハスキャナの制御: 方法と開発](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-06/picture-7-5.png)
ウェーハスキャナの制御: 方法と開発
2024-06-16
モノのインターネットやビッグデータの時代などのパラダイムを含む今日の情報経済は、ムーアの法則に基づいた半世紀にわたる半導体産業の技術開発に基づいて構築されています。 これらの開発の背後にある主な技術的要因はリソグラフィープロセスであると広く信じられています。
![PVD&PVD、CVD&AMAT PVDに関する10種類の成膜技術製品紹介](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-06/picture-4-10.png)
PVD&PVD、CVD&AMAT PVDに関する10種類の成膜技術製品紹介
2024-06-15
技術の発展に伴い、PVD 技術も常に革新しており、特定の用途に特化した技術が多数あります。この特別な在庫では、さまざまな PVD 技術を誰でも紹介できます。
![エッチングエッチング装置の国内外市場分析](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/picture-9-2.png)
![ウェーハ洗浄クリーン/ウェット装置市場分析](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/picture-2-14.png)
ウェーハ洗浄クリーン/ウェット装置市場分析
2024-05-23
半導体プロセス全体で繰り返し洗浄する必要があり、洗浄プロセスは半導体業界全体で行われており、全生産プロセスの 30% 以上を占めています。
![産業用ロボットとは何ですか?](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/t0159b7065ff6dc7879.jpg)
![液浸リソグラフィーにおけるフロー制御](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/picture-2-12.png)
![CMP化学機械研磨装置の原理と国内外の装置メーカーの紹介](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/image-12-copy.png)
CMP化学機械研磨装置の原理と国内外の装置メーカーの紹介
2024-05-18
化学機械研磨 (CMP) は、集積回路チップの製造でウェーハ表面の平坦性を達成するために使用される技術です。