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業界ニュース

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世界5大半導体企業の歴史

世界5大半導体企業の歴史

2024-05-06

半導体産業チェーンは大きすぎるため、半導体大手企業は通常、顧客に完全なソリューションセットを提供するために製品ラインを強化するために継続的に買収や合併を行っています。

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ファウンドリ大手3社が2nm争いに火をつける

ファウンドリ大手3社が2nm争いに火をつける

2024-05-08

世界の大手半導体企業は、次世代のスマートフォン、データセンター、人工知能(AI)を支える2nmチップの生産を競っている。


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大きな変化を起こす世界トップ5の半導体装置

大きな変化を起こす世界トップ5の半導体装置

2024-05-07

チップ製造の中核装置としてEUVリソグラフィー装置が注目を集め、ASMLの重要性がますます高まっており、その波の中で半導体装置市場のパターンも静かに変化しつつある

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酸化シリコン(SiO2)膜の用途は何ですか?

酸化シリコン(SiO2)膜の用途は何ですか?

2024-05-07

半導体製造プロセス全体は非常に一般的で不可欠なものですが、何に使用されますか?

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ウェーハはどのように保管および輸送されますか?

ウェーハはどのように保管および輸送されますか?

2024-05-06

工場内のすべてのプロセスが完了した後のウェーハの保管と輸送に関する特別な要件は何ですか? 環境に配慮した特別な梱包が必要ですか?

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一般的なウェーハのスライス方法

一般的なウェーハのスライス方法

2024-05-04

ウェハのスクライビングは、半導体製造の重要なステップであり、チップの品質と生産量に直接影響します。

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なぜチップは四角いのに、ウェーハは丸いのでしょうか?

なぜチップは四角いのに、ウェーハは丸いのでしょうか?

2024-05-02

一般の印象では、ウェーハは薄くて丸い高純度シリコンウェーハであり、この高純度シリコンウェーハ上にさまざまな回路部品構造を製造するために処理することができ、特定の電気的機能を備えた集積回路製品となります。 。

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第3世代半導体炭化ケイ素の登場、新たなウェーハ切断プロセスに適用可能か?

第3世代半導体炭化ケイ素の登場、新たなウェーハ切断プロセスに適用可能か?

2024-05-01

情報技術の急速な発展と高効率電子デバイスへの需要の高まりに伴い、バンドギャップ幅、誘電率、熱伝導率、最大動作速度などの利点を備えた炭化ケイ素(SiC)に代表される第3世代半導体材料が徐々に登場しています。温度。

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セラミック静電チャック: この「スタックネック」半導体部品はどのようにして製造されるのでしょうか?

セラミック静電チャック: この「スタックネック」半導体部品はどのようにして製造されるのでしょうか?

2024-04-30

システム需要の増大と多様化に応えるため、ウェーハレベルパッケージング技術は高密度、超薄型、超小型、高性能化の方向を常に打破しており、同時に超薄型化の問題も解決しています。デバイスのウェーハクランプにも新たな要求と課題が生じています。

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電子製造、半導体、新エネルギーなどのハイエンド分野におけるアルミナ粉末の需要と応用

電子製造、半導体、新エネルギーなどのハイエンド分野におけるアルミナ粉末の需要と応用

2024-05-10

工業用原料を精密加工し、さまざまな産業の用途ニーズに適応した微細なアルミナ粉末です。

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