情報技術の急速な発展と電子機器の高効率化への需要の高まりに伴い、炭化ケイ素(SiC)に代表される第3世代半導体材料が注目されています。
10 年以上にわたり、液浸リソグラフィーは半導体製造における主要な露光技術でした。