![Penyediaan buburan seramik: penggilingan bola](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/662b4d352ae8e62024.png)
Penyediaan buburan seramik: penggilingan bola
Pengilangan bola adalah kaedah pengisaran, terutamanya melalui bola sebagai medium, penggunaan hentaman, penyemperitan dan geseran untuk mencapai penghancuran bahan.
![Rumusan seramik: Saiz zarah](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/662b44fb7fa8935610.png)
Rumusan seramik: Saiz zarah
Formula seramik merujuk kepada bahawa di bawah konfigurasi bahan mentah pelbagai bentuk dan saiz zarah yang berbeza, sifat fizikal dan kimia produk siap di bawah keadaan proses pengeluaran seramik yang sepadan dan keadaan pembakaran memenuhi keperluan.
![10 istilah biasa industri wafer](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/662a316b4125399168.png)
![Sembur butiran serbuk seramik](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/662a16ca2649095767.png)
Sembur butiran serbuk seramik
Semburan granulasi serbuk seramik adalah kaedah granulasi khas, yang digunakan terutamanya untuk rawatan serbuk seramik.
![Seramik berfungsi: bahan utama dalam bidang sains dan teknologi moden termaju](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/662a05c6c16eb88395.png)
Seramik berfungsi: bahan utama dalam bidang sains dan teknologi moden termaju
Seramik berfungsi ialah sejenis bahan termaju yang menggunakan cahaya, haba, daya, bunyi, kemagnetan, elektrik dan kesan langsung dan kesan gandingan yang lain.
![Elemen penting dalam pembuatan cip- Plasma](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/6629fdd04424390491.png)
Elemen penting dalam pembuatan cip- Plasma
Plasma pertama kali ditemui oleh William Crookes pada tahun 1879 dan dinamakan "plasma" oleh Irving Langmuir pada tahun 1929. Aplikasi plasma dalam pembuatan cip adalah sangat biasa dan penting, boleh dikatakan bahawa tanpa plasma, pengeluaran cip tidak akan dapat dilakukan. Plasma hampir selalu terlibat dalam etsa kering, PVD, CVD, pengubahsuaian permukaan wafer dan litografi.
![Unsur yang diperlukan dalam pembuatan cip - vakum](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/6629f6ab2905871697.png)
Unsur yang diperlukan dalam pembuatan cip - vakum
Vakum sangat penting dalam pembuatan semikonduktor, dalam industri semikonduktor, persekitaran vakum digunakan dalam pelbagai proses, Ia termasuk Pemendapan Wap Fizikal (PVD), Pemendapan Wap Kimia (CVD), dan Pemendapan Lapisan Atom (Pemendapan Lapisan Atom). ALD, Implantasi Ion, Plasma Etching, dan sebagainya.
![Syarikat semikonduktor Top10 dunia, dan kekuatan teknikal utamanya](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/6629d461a0c4b17775.png)
Syarikat semikonduktor Top10 dunia, dan kekuatan teknikal utamanya
Berikut ialah 10 syarikat semikonduktor teratas di dunia mengikut permodalan pasaran dan hasil jualan.
![Mengapa bot silikon karbida tiub relau tidak boleh dibersihkan kering?](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_product/2024-05/picture-3-2.png)
Mengapa bot silikon karbida tiub relau tidak boleh dibersihkan kering?
Bot SiC, ialah bot silikon karbida. Bot silikon karbida digunakan dalam tiub relau, dimuatkan dengan wafer untuk rawatan suhu tinggi aksesori suhu tinggi. Kerana bahan silikon karbida mempunyai rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan kimia dan kestabilan haba yang baik, ia digunakan secara meluas dalam pelbagai proses rawatan haba, seperti resapan, pengoksidaan, CVD, penyepuhlindapan dan sebagainya.
![Pengacuan suntikan gel seramik silikon karbida](https://ecdn6.globalso.com/upload/p/277/image_news/2024-04/6629abdeaa08440514.png)
Pengacuan suntikan gel seramik silikon karbida
Sistem gel ialah komponen teras teknologi pengacuan suntikan gel, dan pemilihannya secara langsung mempengaruhi prestasi produk akhir. Sistem gel yang biasa digunakan termasuk gel organik, gel bukan organik dan gel komposit. Apabila memilih sistem gel, adalah perlu untuk mempertimbangkan kestabilan, kelikatan, kelajuan pengawetan, dan kebolehsuaian kepada bahan tertentu.