Elemen penting dalam pembuatan cip- Plasma

Plasma pertama kali ditemui oleh William Crookes pada tahun 1879 dan dinamakan "plasma" oleh Irving Langmuir pada tahun 1929. Aplikasi plasma dalam pembuatan cip adalah sangat biasa dan penting, boleh dikatakan bahawa tanpa plasma, pengeluaran cip tidak akan dapat dilakukan. Plasma hampir selalu terlibat dalam etsa kering, PVD, CVD, pengubahsuaian permukaan wafer dan litografi.

Apakah plasma?

plasma ialah keadaan keempat bagi sesuatu bahan. Walaupun kebanyakan orang berada di bawah tanggapan bahawa jirim hanya mempunyai tiga keadaan (pepejal, cecair dan gas), lebih daripada 99% jirim yang boleh diperhatikan di alam semesta berada dalam keadaan keempat, seperti dalam bintang, nebula dan medium antara bintang. , dan plasma juga terdapat di Bumi, seperti dalam ionosfera dan magnetosfera di atas Bumi. Plasma terdiri daripada gas terion yang mengandungi jumlah elektron dan ion yang hampir sama, dihasilkan dengan memanaskan gas ke suhu tinggi, membedilnya dengan nyahcas elektrik, atau mendedahkannya kepada sinaran mengion. Oleh kerana plasma tertakluk kepada daya daripada medan elektromagnet luaran atau medan yang dihasilkan oleh arus dan cas di dalam plasma, dinamiknya agak berbeza daripada gas biasa.

Apakah pengionan?

Pengionan gas ialah proses penyingkiran elektron daripada atom atau molekul dalam gas. Dalam pengionan gas, tenaga luar (seperti medan elektrik, sinaran cahaya, atau suhu tinggi) memberikan tenaga yang mencukupi untuk menyebabkan elektron dalam molekul gas atau atom terputus daripada orbital atom atau molekulnya untuk membentuk ion bercas dan elektron bebas. Pengionan gas adalah asas pembentukan plasma. Sebaik sahaja pengionan gas berlaku, ia membawa kepada pengionan atom atau molekul dan penciptaan sejumlah besar elektron dan ion bebas, dan apabila atom yang mencukupi terion untuk memberi kesan ketara kepada sifat elektrik gas, ia menjadi plasma. Plasma bertindak balas dan menghasilkan daya elektromagnet.

Komposisi plasma

Plasma ialah campuran gas ion, elektron, radikal bebas, atom neutral dan molekul. Ion dalam plasma ialah atom atau molekul dengan cas positif atau negatif. Mereka dibentuk oleh kehilangan atau keuntungan satu atau lebih elektron dalam atom atau molekul. Jenis dan bilangan ion bergantung kepada komposisi plasma dan bagaimana ia dihasilkan. Elektron bebas terlepas daripada atom atau molekul dan menjadi zarah bercas negatif. Elektron bebas mempunyai tenaga yang tinggi dan boleh bergerak dan mengalirkan elektrik sebagai tindak balas kepada medan elektrik. Selain elektron dan ion bebas, terdapat juga beberapa zarah neutral dalam plasma, iaitu atom atau molekul yang belum terion. Zarah neutral ini memainkan peranan dalam mengimbangi ion dan elektron dalam plasma, mengekalkan neutraliti elektrik keseluruhan plasma. Radikal bebas ialah kelas bahan kimia dengan elektron tidak berpasangan yang memainkan peranan penting dalam tindak balas kimia dan dalam organisma hidup. Radikal bebas biasanya sangat reaktif kerana ia cenderung untuk memasangkan elektron dengan memerangkapnya atau memberikannya.

Sifat plasma

Sifat plasma adalah berbeza daripada keadaan jirim lain seperti gas, pepejal atau cecair, dengan kekonduksian tinggi, sifat optik unik dan ayunan plasma. Pertama sekali, ia adalah konduktor elektrik dan boleh mengalirkan arus. Ini kerana terdapat sejumlah besar elektron bebas dalam plasma, yang boleh bergerak di bawah tindakan medan elektrik dan membentuk arus elektrik. Kedua, plasma mempunyai interaksi yang kuat dengan sinaran elektromagnet dan boleh memancarkan, menyerap dan menyerakkan cahaya. Selain itu, plasma juga mempunyai sifat termodinamik yang unik, seperti suhu tinggi, tekanan rendah dan ketumpatan tenaga tinggi.

Fountyl Technologies PTE Ltd, memberi tumpuan kepada industri pembuatan semikonduktor, produk utama termasuk: Pin chuck, poros ceramic chuck, seramik end effector, seramik square rasuk, seramik spindle, dialu-alukan untuk menghubungi dan rundingan！