Syarikat Jepun memonopoli pasaran bekalan fotoresist EUV

Pada masa ini, hanya dua pengeluar cip telah menguasai litografi semikonduktor menggunakan litografi sinaran ultraungu ekstrem EUV, tetapi tidak ada keraguan bahawa ini adalah masa depan litografi. Seperti mana-mana masa depan, ia memberi peluang kepada beberapa perintis pasaran bahan litografi untuk mewujudkan diri mereka dalam pasaran baharu. Khususnya, teknologi yang digunakan dalam litografi EUV kini dihasilkan oleh dua syarikat Jepun, dan salah satunya ialah Fujifilm yang terkenal.

Fujifilm Holdings dan Sumitomo Chemical akan mula membekalkan bahan litografi untuk cip generasi seterusnya pada 2021, yang boleh membantu mengurangkan saiz cip dalam telefon pintar dan peranti lain serta menjadikannya lebih cekap tenaga. Bahan ini digunakan terutamanya sebagai bekalan photoresist dan memainkan peranan utama dalam pengelasan kristal silikon.

Syarikat Jepun telah pun merebut bekalan photoresist. Sebagai contoh, dua syarikat Jepun, JSR dan Shin-etsu Chemical, terutamanya membekalkan photoresist yang digunakan untuk mengawal mesin litografi EUV, yang menyumbang 90% daripada pasaran mesin litografi. Monopoli maya ini malah membenarkan Jepun mengehadkan Korea Selatan dengan bekalan bahan itu, yang sudah berlaku dalam pasaran cip setahun lalu. Nasib baik, semuanya berjaya.

Jadi Fujifilm dan Sumitomo Chemical menawarkan photoresist untuk litografi EUV akan mengurangkan lagi keadaan, walaupun mereka juga syarikat Jepun.

Fujifilm melabur 4.5 bilion yen ($42.6 juta) untuk melengkapkan kilang pembuatan di wilayah Shizuoka, barat daya Tokyo, untuk memulakan pengeluaran besar-besaran photoresist tahun depan. Menurut wakil syarikat, photoresistnya meninggalkan jumlah minimum bahan sisa pada silikon, sangat mengurangkan kemungkinan kecacatan cip.

Sumitomo Chemical akan melengkapkan semua kapasiti photoresist (dari reka bentuk hingga pengeluaran) di kilang Osaka pada awal fiskal 2022. Bagaimanapun, sebagai pembekal photoresist pengimbas 193nm, ia telah menandatangani kontrak dengan pengeluar terkenal terlebih dahulu untuk produk masa depan, mungkin untuk TSMC.

Pada masa hadapan, isu pengeluaran fotoresist untuk proses teknologi 3nm akan menjadi penting kerana photoresist moden tidak sesuai digunakan atas banyak sebab. Teknologi EUV memerlukan penggunaan photoresist yang unik, dan semakin kecil teknologi proses, semakin tinggi keperluan untuk photoresist.

Sehingga Oktober 2020: Sebagai tindak balas kepada peningkatan permintaan untuk 5G dan separa konduktor pusat data, Shin-Etsu Chemical Industry (Shin-Etsu Chemical) Jepun berkata ia akan membina kilang baharu di Taiwan untuk meningkatkan kapasiti pengeluaran bahan semikonduktor "photoresist" sebanyak 5%, dan disebabkan peningkatan dalam pesanan daripada TSMC, Shin-etsu Chemical juga akan mula menggunakan kilang Taiwan untuk menghasilkan photoresist "cahaya ultraungu melampau (EUV)".

Shin-etsu Chemical merancang untuk membina kilang fotoresist baharu di Daerah Yunlin, Taiwan dan Zhijiangjin, Jepun, dan dijangka mengaktifkan pengeluaran masing-masing sekitar Februari 2021 dan Februari 2022, sekali gus meningkatkan kapasiti pengeluaran sebanyak 50% di Taiwan dan 20% di Jepun , dengan anggaran jumlah pelaburan kira-kira 30 bilion yen. Menurut laporan itu, Shin-etsu Chemical juga akan mula menggunakan kilang Taiwan untuk menghasilkan photoresist yang digunakan dalam teknologi pengeluaran semikonduktor canggih "cahaya ultraungu melampau (EUV)." Shin-etsu Chemical pada masa ini mengeluarkan photoresist EUV hanya di kilangnya di Jepun, tetapi disebabkan peningkatan tempahan daripada pelanggan seperti TSMC, ia akan mengembangkan rangkaian bekalannya untuk menghasilkan photoresists EUV di kilangnya di Taiwan.

Menurut agensi penyelidikan pasaran Jepun Fujifilm Economy menunjukkan bahawa saiz pasaran photoresist global dianggarkan kira-kira 250 bilion yen pada 2024, yang akan meningkat sebanyak 60% dari 2019. Dalam pasaran photoresist global, pengeluar Jepun mengawal kira-kira 80% daripada bahagian pasaran, di mana bahagian pasaran Shin-etsu Chemical sebanyak 2-3. Fujifilm (Fujifilm) dan Sumitomo Chemical (Sumitomo Chemical) juga telah mengumumkan bahawa mereka akan memasuki pasaran fotoresist EUV.

Fountyl Technologies PTE Ltd. dengan chuck vakum mikroporous boleh digunakan dengan peralatan Jepun, Jerman, Israel, Amerika dan domestik, dengan prestasi produk yang sangat unggul dan perkhidmatan satu sama satu yang baik.