Plasma pertama kali ditemui oleh William Crookes pada tahun 1879 dan dinamakan "plasma" oleh Irving Langmuir pada tahun 1929. Aplikasi plasma dalam pembuatan cip adalah sangat biasa dan penting, boleh dikatakan t...
Dalam rantaian industri semikonduktor, terutamanya dalam rantai industri semikonduktor generasi ketiga (semikonduktor jurang jalur lebar), akan ada lapisan substrat dan epitaxial, apakah tanda...
