Een essentieel element bij de productie van chips: plasma

Plasma werd voor het eerst ontdekt door William Crookes in 1879 en door Irving Langmuir "plasma" genoemd in 1929. De toepassing van plasma bij de productie van chips is heel gebruikelijk en belangrijk. Er kan worden gezegd dat zonder plasma de productie van chips niet mogelijk zou zijn. Plasma is vrijwel altijd betrokken bij droogetsen, PVD, CVD, waferoppervlakmodificatie en lithografie.

Wat is plasma?

plasma is de vierde toestand van een stof. Hoewel de meeste mensen de indruk hebben dat materie slechts drie toestanden kent (vast, vloeibaar en gas), bevindt meer dan 99% van de waarneembare materie in het universum zich in de vierde toestand, zoals in sterren, nevels en het interstellaire medium. , en plasma is ook op aarde aanwezig, zoals in de ionosfeer en magnetosfeer boven de aarde. Plasma bestaat uit geïoniseerde gassen die ongeveer gelijke hoeveelheden elektronen en ionen bevatten, geproduceerd door de gassen tot hoge temperaturen te verwarmen, ze te bombarderen met elektrische ontladingen of ze bloot te stellen aan ioniserende straling. Omdat plasma's onderhevig zijn aan krachten van externe elektromagnetische velden of velden die worden gegenereerd door stromen en ladingen in het plasma, is hun dynamiek heel anders dan die van gewone gassen.

Wat is ionisatie?

Gasionisatie is het proces waarbij elektronen worden verwijderd uit atomen of moleculen in een gas. Bij gasionisatie leveren externe energieën (zoals elektrische velden, lichtstraling of hoge temperaturen) voldoende energie om ervoor te zorgen dat elektronen in gasmoleculen of atomen zich losmaken van hun atomaire of moleculaire orbitalen om geladen ionen en vrije elektronen te vormen. Gasionisatie is de basis van plasmavorming. Zodra ionisatie van een gas plaatsvindt, leidt dit tot ionisatie van atomen of moleculen en de creatie van een groot aantal vrije elektronen en ionen, en wanneer voldoende atomen worden geïoniseerd om de elektrische eigenschappen van het gas aanzienlijk te beïnvloeden, wordt het een plasma. Het plasma reageert en genereert een elektromagnetische kracht.

De samenstelling van plasma

Plasma is een gasvormig mengsel van ionen, elektronen, vrije radicalen, neutrale atomen en moleculen. De ionen in een plasma zijn atomen of moleculen met een positieve of negatieve lading. Ze worden gevormd door het verlies of de winst van een of meer elektronen in een atoom of molecuul. Het type en aantal ionen zijn afhankelijk van de samenstelling van het plasma en de manier waarop het wordt geproduceerd. Vrije elektronen breken zich af van atomen of moleculen en worden negatief geladen deeltjes. Vrije elektronen hebben een hoge energie en kunnen elektriciteit verplaatsen en geleiden als reactie op een elektrisch veld. Naast vrije elektronen en ionen bevinden zich ook enkele neutrale deeltjes in het plasma, dat wil zeggen atomen of moleculen die niet zijn geïoniseerd. Deze neutrale deeltjes spelen een rol bij het in evenwicht brengen van ionen en elektronen in het plasma, waardoor de algehele elektrische neutraliteit van het plasma behouden blijft. Vrije radicalen zijn een klasse chemicaliën met ongepaarde elektronen die een belangrijke rol spelen bij chemische reacties en in levende organismen. Vrije radicalen zijn meestal zeer reactief omdat ze de neiging hebben elektronen te paren door ze op te vangen of weg te geven.

Eigenschappen van plasma

De eigenschappen van plasma verschillen van andere toestanden van materie, zoals gas, vast of vloeibaar, met een hoge geleidbaarheid, unieke optische eigenschappen en plasma-oscillaties. Allereerst is het een elektrische geleider en kan het stroom geleiden. Dit komt omdat er een groot aantal vrije elektronen in het plasma aanwezig zijn, die onder invloed van een elektrisch veld kunnen bewegen en een elektrische stroom kunnen vormen. Ten tweede heeft plasma een sterke interactie met elektromagnetische straling en kan het licht uitzenden, absorberen en verstrooien. Daarnaast heeft plasma ook unieke thermodynamische eigenschappen, zoals hoge temperatuur, lage druk en hoge energiedichtheid.

Fountyl Technologies PTE Ltd, richt zich op de halfgeleiderindustrie, de belangrijkste producten zijn onder meer: ​​Pin chuck, poreuze keramische chuck, keramische eindeffector, keramische vierkante balk, keramische spindel, welkom bij contact en onderhandeling！