Métodos comuns de desenvolvimento de wafer
O processo de desenvolvimento de wafer é uma etapa essencial no processo de litografia e passou por décadas de inovação e avanço. Então, quantos métodos de desenvolvimento comuns existem? Quais são os tipos de desenvolvedor? Qual é o mecanismo de desenvolvimento? Quais são os principais fatores de controle do desenvolvimento?
Processo de moldagem e tendência de desenvolvimento tecnológico de cerâmicas especiais
Por causa de cerâmicas especiais com resistência a altas temperaturas, resistência ao desgaste, resistência à corrosão, alta dureza, alta precisão e outras vantagens que metais e plásticos não possuem, e nas áreas de eletrônica, supercondutividade, óptica, biologia, magnetismo, armazenamento de energia e assim em diante, tornar-se o "ouro negro material" a montante de muitas cadeias industriais de alta tecnologia.
Preparação de pasta cerâmica: moagem de bolas
A moagem de bolas é um método de moagem, principalmente através da bola como meio, o uso de impacto, extrusão e fricção para conseguir a britagem de materiais.
Formulação cerâmica: Tamanho de partícula
A fórmula da cerâmica refere-se a que, sob a configuração de matérias-primas de diferentes formatos e diferentes tamanhos de partículas, as propriedades físicas e químicas dos produtos acabados nas correspondentes condições do processo de produção de cerâmica e condições de queima atendem aos requisitos.
10 termos comuns da indústria de wafer
Um wafer começa com o crescimento do cristal
Granulação por spray de pó cerâmico
A granulação por spray de pó cerâmico é um método de granulação especial, usado principalmente para o tratamento de pó cerâmico.
Cerâmica funcional: materiais essenciais no campo da ciência e tecnologia modernas avançadas
A cerâmica funcional é um tipo de material avançado que utiliza luz, calor, força, som, magnetismo, eletricidade e outros efeitos diretos e efeitos de acoplamento.
Um elemento essencial na fabricação de chips – Plasma
O plasma foi descoberto pela primeira vez por William Crookes em 1879 e denominado "plasma" por Irving Langmuir em 1929. A aplicação do plasma na fabricação de chips é muito comum e importante, pode-se dizer que sem o plasma a produção de chips não seria possível. O plasma está quase sempre envolvido em ataque a seco, PVD, CVD, modificação de superfície de wafer e litografia.
Um elemento necessário na fabricação de chips - vácuo
O vácuo é muito importante na fabricação de semicondutores, na indústria de semicondutores, o ambiente de vácuo é usado em vários processos, incluindo Deposição Física de Vapor (PVD), Deposição Química de Vapor (CVD) e Deposição de Camada Atômica (Deposição de Camada Atômica). ALD, implantação iônica, gravação de plasma e assim por diante.
As 10 maiores empresas de semicondutores do mundo e sua principal força técnica
Aqui estão as 10 maiores empresas de semicondutores do mundo por capitalização de mercado e receita de vendas.