Высококачественные компоненты из карбида кремния из алюминия от японских экспортеров

Сопутствующие товары

Патрон с кольцевой канавкой широко используется в оборудовании для производства полупроводников для поглощения, фиксации, перемещения и обработки кремниевых пластин, пластин и различных заготовок и материалов.

Керамика из глинозема с превосходной стойкостью к плазменной коррозии и высокой износостойкостью.

Пористая керамика с высокой термостойкостью, высокой прочностью и хорошей химической стабильностью.

Материал PEEK с высокоэффективным конструкционным пластиком, обладающий превосходной термостойкостью, химической стойкостью, механической прочностью и стабильностью размеров.

Карбид кремния используется для изготовления коррозионностойких деталей, деталей уплотнений, деталей, устойчивых к высоким температурам, направляющих и квадратных балок.

Электростатический патрон с совместимостью, высокой плотностью, высокой структурной прочностью и индивидуальной

Керамические детали из оксида бериллия, используемые в автомобилях, полупроводниках и больших интегральных схемах.

Самые продаваемые продукты

Плавающая платформа на пористом воздухе с технологией передачи нагрузки бесконтактным способом для полупроводниковой промышленности

Цирконий используется для изготовления износостойких и термостойких деталей.

Кварцевое стекло, расплавленное с различными видами чистого природного кварца.

Конструкционная деталь из карбида алюминия и кремния, используемая в авиации, аэрокосмической отрасли, морских кораблях, железнодорожном транспорте, транспортных средствах на новой энергии.

Зажимной патрон для пластин, используемый для устройства экспонирования полупроводников и устройства для проверки пластин.

Керамические конструктивные детали (керамические детали)

Связанный блог

Достигнут прогресс в исследовании 8-дюймовых монокристаллов карбида кремния.

Характеристики высококачественного кристаллического качества эпитаксиального слоя SiC обуславливают, что эпитаксиальный слой должен иметь кристаллическую структуру высокой чистоты и низкую плотность дефектов, чтобы обеспечить надежность ...

Усовершенствованная технология утончения подложки из нитрида галлия

Переход на водородную плазму обеспечивает высокоскоростное травление подложек GaN, а инженеры Осакского университета в Японии утверждают, что совершили новый прорыв в утончении нитрида галлия (GaN...

Связанный поиск

Leave Your Message