Распространенные методы разработки пластин
Процесс разработки пластин является важным шагом в процессе литографии и претерпел десятилетия инноваций и усовершенствований. Итак, сколько же существует общих методов разработки? Какие существуют типы разработчиков? Каков механизм развития? Каковы основные факторы, контролирующие развитие?
Тенденции развития процесса формования и технологии специальной керамики.
Благодаря специальной керамике с высокой термостойкостью, износостойкостью, коррозионной стойкостью, высокой твердостью, высокой точностью и другими преимуществами, которых нет у металлов и пластмасс, а также в области электроники, сверхпроводимости, оптики, биологии, магнетизма, хранения энергии и т. д. дальше, стать «материалом черного золота» в верхней части многих высокотехнологичных промышленных цепочек.
Приготовление керамической суспензии: шаровая мельница.
Шаровое измельчение - это метод измельчения, в основном с использованием шара в качестве среды, использования удара, экструзии и трения для измельчения материалов.
Керамический состав: Размер частиц
Формула керамики означает, что при конфигурации сырья разной формы и разного размера частиц физические и химические свойства готовой продукции при соответствующих условиях процесса производства керамики и условиях обжига соответствуют требованиям.
10 распространенных терминов в индустрии полупроводниковых пластин
Пластина начинается с роста кристаллов
Распылительная грануляция керамического порошка
Распылительная грануляция керамического порошка — это специальный метод грануляции, который в основном используется для обработки керамического порошка.
Функциональная керамика: ключевые материалы в области передовой современной науки и техники
Функциональная керамика — это своего рода современный материал, который использует свет, тепло, силу, звук, магнетизм, электричество и другие прямые эффекты и эффекты связи.
Важный элемент в производстве чипов — плазма.
Плазма была впервые обнаружена Уильямом Круксом в 1879 году и названа «плазмой» Ирвингом Ленгмюром в 1929 году. Применение плазмы в производстве чипов очень распространено и важно. Можно сказать, что без плазмы производство чипов было бы невозможно. Плазма почти всегда используется при сухом травлении, PVD, CVD, модификации поверхности пластин и литографии.
Необходимый элемент в производстве чипов – вакуум
Вакуум очень важен в производстве полупроводников. В полупроводниковой промышленности вакуумная среда используется в различных процессах, включая физическое осаждение из паровой фазы (PVD), химическое осаждение из паровой фазы (CVD) и осаждение атомного слоя (осаждение атомного слоя). ALD, ионная имплантация, плазменное травление и так далее.
Топ-10 мировых полупроводниковых компаний и их основные технические преимущества
Вот 10 крупнейших полупроводниковых компаний в мире по рыночной капитализации и выручке от продаж.