Распространенные методы разработки пластин

Процесс разработки пластин является важным шагом в процессе литографии и претерпел десятилетия инноваций и усовершенствований. Итак, сколько же существует общих методов разработки? Какие существуют типы разработчиков? Каков механизм развития? Каковы основные факторы, контролирующие развитие?

Что такое развитие?

Проявка фоторезиста (проявка фоторезиста) — это нанесение раствора проявителя на фоторезист после экспонирования. Проявитель представляет собой химический растворитель, который смывает экспонированную или неэкспонированную часть фоторезиста для получения желаемого рисунка на пластине. В частности: в позитивном клее экспонированная часть смывается во время проявления. В негативном клее неэкспонированная часть смывается во время проявления.

Механизм развития разработчика

Положительная резина

Когда положительный клей подвергается воздействию, фотохимическая реакция светочувствительной группы генерирует кислотную группу, выделяет азот, а кислотная группа вступает в реакцию с проявителем, и структура фоторезиста будет разрушена, поэтому фоторезист после воздействия будет Смыты. Поскольку фоторезист после экспонирования содержит много кислотных групп, проявителем обычно является слабощелочной раствор.

Отрицательная резинка

Когда негативный клей подвергается воздействию, из-за реакции фоточувствительных групп молекулы полимера в фоторезисте сшиваются в сетчатую структуру, что делает экспонированный фоторезист структурно более стабильным и менее растворимым. Проявитель растворяет неэкспонированный (несшитый) фоторезист, при этом фоторезист в экспонированной зоне остается неизменным.

Общие методы разработки

Иммерсионное развитие:

Операция: при иммерсионной проявке пластина полностью погружается в проявитель на фиксированный период времени. Плюсы: Процесс простой. Равномерное проявление достигается за счет того, что вся пластина равномерно покрыта проявителем. Он широко используется в лабораторных и исследовательских средах, поскольку его легко реализовать и он не требует сложного оборудования.

Недостатки: Не подходит для массового производства, так как требуется большое количество проявителя. Проявитель может быть загрязнен, особенно если последовательно проявлять несколько пластин. Факторы управления: температура, время, концентрация, текучесть проявителя. Тот же проявитель: чем выше температура, тем больше концентрация, чем интенсивнее перемешивание, тем выше скорость проявления.

Развитие спрея:

Операция: при проявке распылением используется специальное оборудование для равномерного распыления проявителя на поверхность пластины в виде распыления. Преимущества: Высокая эффективность и экономия разработчиков. Поскольку на пластину распыляется только необходимое количество проявителя, отходов мало. Он может обеспечить очень равномерный эффект проявления, а во время проявления пластина распыляется и поворачивается. Он больше подходит для массового производства, поскольку позволяет быстро и непрерывно обрабатывать несколько пластин.

Недостатки: Для обеспечения равномерности распыления требуется более сложное оборудование и более точный контроль параметров процесса. Если распыление неравномерно, это может привести к нестабильным результатам проявки. Факторы управления: температура, время, концентрация, давление распыления, скорость потока, скорость пластины и т. д.

Тип разработчика

Позитивный разработчик:ТМАХ, NaOH, AZ 400K, AZ 826 MIF, AZ ECI 3027

Эквинотрицательный фоторезист:Разработчик AZ 326 MIF, Разработчик AZ 726 MIF, Разработчик AZ 826 MIF и т. д.

В приведенном выше списке указаны только общие проявители, как правило, в зависимости от разного фоторезиста, разного разрешения, разной толщины клея, чтобы выбрать подходящий проявитель.

Fountyl Technologies PTE Ltd специализируется на производстве полупроводников, основная продукция включает в себя: штифтовый патрон, пористый керамический патрон, керамический концевой эффектор, керамическую квадратную балку, керамический шпиндель, добро пожаловать к контакту и переговорам！