OEM-обработка керамических материалов: надежные решения для ваших нужд

Сопутствующие товары

Керамический концевой эффектор (керамический палец, керамический манипулятор робота)

Материал PEEK с высокоэффективным конструкционным пластиком, обладающий превосходной термостойкостью, химической стойкостью, механической прочностью и стабильностью размеров.

Керамические детали из оксида бериллия, используемые в автомобилях, полупроводниках и больших интегральных схемах.

Конструкционная деталь из карбида алюминия и кремния, используемая в авиации, аэрокосмической отрасли, морских кораблях, железнодорожном транспорте, транспортных средствах на новой энергии.

Керамика из оксида бериллия с высокой теплопроводностью и низкими характеристиками потерь.

Керамика из нитрида кремния с превосходными физическими, химическими и механическими свойствами.

Карбид кремния используется для изготовления коррозионностойких деталей, деталей уплотнений, деталей, устойчивых к высоким температурам, направляющих и квадратных балок.

Самые продаваемые продукты

Микропористый керамический вакуумный патрон

Пористая керамика с высокой термостойкостью, высокой прочностью и хорошей химической стабильностью.

Электростатический патрон с совместимостью, высокой плотностью, высокой структурной прочностью и индивидуальной

Патрон с кольцевой канавкой широко используется в оборудовании для производства полупроводников для поглощения, фиксации, перемещения и обработки кремниевых пластин, пластин и различных заготовок и материалов.

Керамика из карбида алюминия и кремния, используемая в аэрокосмической, автомобильной, военной, электронной, спортивной отраслях.

Цирконий используется для изготовления износостойких и термостойких деталей.

Связанный блог

Ключевые моменты и характеристики вакуумного патрона из микропористой керамики.

Мы разработали новую пористую керамику, размер пор которой может составлять от менее 1 микрона до сотен микрон. Воздух вытягивается через крошечные поры, и обрабатываемый материал очищается...

Усовершенствованная технология утончения подложки из нитрида галлия

Переход на водородную плазму обеспечивает высокоскоростное травление подложек GaN, а инженеры Осакского университета в Японии утверждают, что совершили новый прорыв в утончении нитрида галлия (GaN...

Связанный поиск

Leave Your Message