ฟิล์มซิลิคอนออกไซด์ (SiO2) มีประโยชน์อย่างไร?

กระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ทั้งหมดเป็นเรื่องธรรมดาและขาดไม่ได้ มีไว้เพื่ออะไร?

คุณสมบัติทางกายภาพและเคมีของซิลิคอนออกไซด์?

ซิลิคอนออกไซด์ (SiO2) มักมีอยู่ในธรรมชาติในรูปของผลึกควอตซ์ และในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ CVD หรือ PVD ในรูปของอสัณฐาน ความแข็งสูง จุดหลอมเหลวสูง เสถียรภาพทางเคมีที่ดีเยี่ยม แทบไม่ทำปฏิกิริยากับสารเคมีอื่นๆ ประสิทธิภาพของฉนวนที่ดี ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ

การใช้ฟิล์มซิลิคอนออกไซด์ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์?

1. ใช้เป็นชั้นมาส์กสำหรับการแกะสลัก การแพร่กระจาย และการฝังไอออน ซิลิคอนออกไซด์มีคุณสมบัติในการเลือกใช้สูงและไม่ทำปฏิกิริยากับสารเคมีและก๊าซในฐานะที่เป็นหน้ากากกัดกรด ในฐานะที่เป็นหน้ากากการแพร่และการฝังไอออน จะช่วยป้องกันการแพร่กระจายของสารเจือ เช่น โบรอนและฟอสฟอรัส ไปยังบริเวณอื่นๆ ของเวเฟอร์ซิลิคอน เพื่อให้สามารถควบคุมขอบเขตของบริเวณที่ใช้สารต้องห้ามได้อย่างแม่นยำ

2 ใช้เป็นสื่อฉนวน (การแยก ตารางฉนวน ฉนวนสายไฟหลายชั้น สื่อ capacitive ฯลฯ ); เป็นชั้นแยก (Isolation Layer) ช่วยลดการครอสทอล์คระหว่างส่วนต่างๆ เนื่องจากชั้นเกทออกไซด์ จึงสามารถควบคุมแรงดันเกตได้อย่างมีประสิทธิภาพเพื่อควบคุมพาหะของช่องสัญญาณ เพื่อควบคุมกระแสที่ไหลผ่านทรานซิสเตอร์ เป็นชั้นอิเล็กทริก ใช้เพื่อแยกชั้นโลหะระหว่างชั้นต่างๆ ซึ่งสามารถป้องกันกระแสรั่วไหลและไฟฟ้าลัดวงจรได้

3 ใช้สำหรับการป้องกันพื้นผิวและทู่ ฟิล์มซิลิคอนออกไซด์สามารถใช้เป็นชั้นป้องกัน โดยครอบคลุมพื้นผิวของวัสดุที่ละเอียดอ่อนเพื่อปกป้องจากความชื้นภายนอก มลพิษ และการกัดกร่อนของสารเคมี เป็นชั้นทู่เพื่อปรับปรุงคุณสมบัติทางเคมีและทางไฟฟ้าของพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์ สามารถป้องกันกิจกรรมของอะตอมบนพื้นผิวได้อย่างมีประสิทธิภาพ ลดข้อบกพร่องที่พื้นผิว และปรับปรุงประสิทธิภาพทางไฟฟ้าของอุปกรณ์

Fountyl Technologies PTE Ltd มุ่งเน้นไปที่อุตสาหกรรมการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ผลิตภัณฑ์หลัก ได้แก่: Pin chuck, หัวจับเซรามิกที่มีรูพรุน, เอฟเฟกต์ปลายเซรามิก, คานสี่เหลี่ยมเซรามิก, แกนหมุนเซรามิก ยินดีต้อนรับสู่การติดต่อและการเจรจา！