Çip üretiminde önemli bir unsur – Plazma

Plazma ilk olarak 1879 yılında William Crookes tarafından keşfedilmiş ve 1929 yılında Irving Langmuir tarafından "plazma" olarak adlandırılmıştır. Plazmanın çip üretiminde uygulanması oldukça yaygın ve önemlidir, plazma olmadan çip üretiminin mümkün olamayacağı söylenebilir. Plazma neredeyse her zaman kuru aşındırma, PVD, CVD, levha yüzey modifikasyonu ve litografide yer alır.

Plazma nedir?

Plazma maddenin dördüncü halidir. Çoğu insan maddenin yalnızca üç halinin (katı, sıvı ve gaz) olduğu izlenimine kapılmışken, evrendeki gözlemlenebilir maddenin %99'undan fazlası yıldızlar, bulutsular ve yıldızlararası ortam gibi dördüncü haldedir. ve plazma, Dünya'nın üzerindeki iyonosfer ve manyetosfer gibi Dünya'da da mevcuttur. Plazma, gazların yüksek sıcaklıklara ısıtılması, elektrik deşarjlarıyla bombardıman edilmesi veya iyonlaştırıcı radyasyona maruz bırakılmasıyla üretilen, kabaca eşit miktarda elektron ve iyon içeren iyonize gazlardan oluşur. Plazmalar, dış elektromanyetik alanlardan veya plazma içindeki akımlar ve yükler tarafından oluşturulan alanlardan gelen kuvvetlere maruz kaldığından, dinamikleri sıradan gazlarınkinden oldukça farklıdır.

İyonlaşma nedir?

Gaz iyonizasyonu, bir gazdaki atomlardan veya moleküllerden elektronların uzaklaştırılması işlemidir. Gaz iyonizasyonunda, dış enerjiler (elektrik alanları, ışık radyasyonu veya yüksek sıcaklıklar gibi), gaz moleküllerindeki veya atomlardaki elektronların yüklü iyonlar ve serbest elektronlar oluşturmak üzere atomik veya moleküler yörüngelerinden kopmasına neden olacak yeterli enerjiyi sağlar. Gaz iyonizasyonu plazma oluşumunun temelidir. Bir gazın iyonlaşması meydana geldiğinde, atomların veya moleküllerin iyonlaşmasına ve çok sayıda serbest elektron ve iyonun oluşmasına yol açar ve gazın elektriksel özelliklerini önemli ölçüde etkileyecek kadar atom iyonize olduğunda gaz bir plazma haline gelir. Plazma tepki verir ve bir elektromanyetik kuvvet üretir.

Plazmanın bileşimi

Plazma iyonların, elektronların, serbest radikallerin, nötr atomların ve moleküllerin gaz halindeki bir karışımıdır. Plazmadaki iyonlar pozitif veya negatif yüklü atomlar veya moleküllerdir. Bir atom veya molekülde bir veya daha fazla elektronun kaybedilmesi veya kazanılmasıyla oluşurlar. İyonların türü ve sayısı plazmanın bileşimine ve nasıl üretildiğine bağlıdır. Serbest elektronlar atomlardan veya moleküllerden koparak negatif yüklü parçacıklar haline gelir. Serbest elektronlar yüksek enerjiye sahiptir ve bir elektrik alanına tepki olarak hareket edebilir ve elektriği iletebilir. Serbest elektron ve iyonların yanı sıra plazmada bazı nötr parçacıklar yani iyonize olmamış atom veya moleküller de bulunur. Bu nötr parçacıklar, plazmanın genel elektriksel nötrlüğünü koruyarak plazmadaki iyonları ve elektronları dengelemede rol oynar. Serbest radikaller, kimyasal reaksiyonlarda ve canlı organizmalarda önemli rol oynayan, eşleşmemiş elektronlara sahip bir kimyasal sınıfıdır. Serbest radikaller genellikle çok reaktiftir çünkü elektronları yakalayarak veya vererek eşleştirme eğilimindedirler.

Plazmanın özellikleri

Plazmanın özellikleri, yüksek iletkenliği, benzersiz optik özellikleri ve plazma salınımları ile maddenin gaz, katı veya sıvı gibi diğer hallerinden farklıdır. Öncelikle elektrik iletkenidir ve akımı iletebilir. Bunun nedeni, plazmada, bir elektrik alanının etkisi altında hareket edebilen ve bir elektrik akımı oluşturabilen çok sayıda serbest elektronun bulunmasıdır. İkincisi, plazmanın elektromanyetik radyasyonla güçlü bir etkileşimi vardır ve ışığı yayabilir, emebilir ve dağıtabilir. Ayrıca plazmanın yüksek sıcaklık, düşük basınç ve yüksek enerji yoğunluğu gibi benzersiz termodinamik özellikleri de vardır.

Fountyl Technologies PTE Ltd, yarı iletken imalat endüstrisine odaklanmaktadır; ana ürünler şunlardır: Pim aynası, gözenekli seramik ayna, seramik uç efektör, seramik kare kiriş, seramik mil, iletişim ve müzakereye hoş geldiniz！