Epitaksi nedir?

EpitaksiMikroelektronik ve optoelektronik üretim sürecinde son derece önemli bir konuma sahip olan bir kristal büyütme veya malzeme biriktirme teknolojisini ifade eder ve aşağıdakileri içerir: Homoepitaksi, heteroepitaksi ve taneler arası epitaksi, epitaksi tarafından oluşturulan yeni kristalin katman, bir veya daha fazla net kristal alanı oryantasyonuna sahiptir. substrat veya tohum, yani yeni kristalin katmanın her alanı, substrat kristal yapısına göre net bir kristal oryantasyonuna sahip olmalıdır.

Epitaksiyel kristal büyütme teknolojisinin üç film oluşturma yöntemi vardır (şekilde gösterildiği gibi): Volmer-Weber (VW), Frank-van der Merwe (FM) ve Stranski-Krastanov (SK).

Genellikle sıvı faz epitaksi (LPE) teknolojisi ve gaz fazı epitaksi ve metal organik kimyasal buhar biriktirme (MOCVD) ve moleküler ışın epitaksi (MBE) dahil olmak üzere gaz fazı epitaksi teknolojisine ayrılır. Çöken kristal filme epitaksiyel film veya epitaksiyel katman denir.

Aşağıdakiler de dahil olmak üzere üç ana film büyüme modu vardır:

(a)Volmer-Weber (VW, ada büyümesi)

(b) Frank-van der Merwe (FM, katmanlı büyüme)

(c) Stranski-Krastanov (SK, katmanlı ada büyümesi)

FOUNTYL TEKNOLOJİLERİ PTE. LTD. ileri seramik seti Ar-Ge, üretim ve satış alanında modern bir kuruluştur ve esas olarak gözenekli seramikler, alümina, zirkonya, silisyum nitrür, silisyum karbür, alüminyum nitrür, mikrodalga dielektrik seramikler ve diğer gelişmiş seramik malzemeleri üretir. Özel olarak davet edilen Japon teknoloji uzmanımız, yarı iletken alanında 30 yılı aşkın endüstri deneyimine sahip olup, yerli ve yabancı müşterilere aşınma direnci, korozyon direnci, yüksek sıcaklık dayanımı, yüksek ısı iletkenliği, izolasyon ile özel seramik uygulama çözümlerini verimli bir şekilde sunmaktadır.