Một yếu tố thiết yếu trong sản xuất chip- Plasma

Plasma được William Crookes phát hiện lần đầu tiên vào năm 1879 và được Irving Langmuir đặt tên là “plasma” vào năm 1929. Việc ứng dụng plasma trong sản xuất chip là rất phổ biến và quan trọng, có thể nói nếu không có plasma thì việc sản xuất chip sẽ không thể thực hiện được. Plasma hầu như luôn tham gia vào quá trình khắc khô, PVD, CVD, chỉnh sửa bề mặt wafer và in thạch bản.

Huyết tương là gì?

huyết tương là trạng thái thứ tư của một chất. Trong khi hầu hết mọi người đều có ấn tượng rằng vật chất chỉ có ba trạng thái (rắn, lỏng và khí), thì hơn 99% vật chất quan sát được trong vũ trụ nằm ở trạng thái thứ tư, chẳng hạn như trong các ngôi sao, tinh vân và môi trường liên sao. , và plasma cũng hiện diện trên Trái đất, chẳng hạn như trong tầng điện ly và từ quyển phía trên Trái đất. Plasma bao gồm các khí bị ion hóa chứa lượng electron và ion gần bằng nhau, được tạo ra bằng cách đốt nóng khí đến nhiệt độ cao, bắn phá chúng bằng phóng điện hoặc cho chúng tiếp xúc với bức xạ ion hóa. Bởi vì plasma chịu tác dụng của lực từ trường điện từ bên ngoài hoặc trường được tạo ra bởi dòng điện và điện tích bên trong plasma nên động lực học của chúng khá khác so với động lực học của khí thông thường.

Ion hóa là gì?

Ion hóa khí là quá trình loại bỏ các electron khỏi nguyên tử hoặc phân tử trong chất khí. Trong quá trình ion hóa khí, năng lượng bên ngoài (như điện trường, bức xạ ánh sáng hoặc nhiệt độ cao) cung cấp đủ năng lượng để làm cho các electron trong phân tử hoặc nguyên tử khí tách ra khỏi quỹ đạo nguyên tử hoặc phân tử của chúng để tạo thành các ion tích điện và electron tự do. Sự ion hóa khí là cơ sở hình thành plasma. Khi quá trình ion hóa khí xảy ra, nó sẽ dẫn đến sự ion hóa các nguyên tử hoặc phân tử và tạo ra một số lượng lớn các electron và ion tự do, và khi đủ nguyên tử bị ion hóa để ảnh hưởng đáng kể đến tính chất điện của khí, nó sẽ trở thành plasma. Plasma phản ứng và tạo ra một lực điện từ.

Thành phần của huyết tương

Plasma là hỗn hợp khí của các ion, electron, gốc tự do, nguyên tử và phân tử trung tính. Các ion trong plasma là các nguyên tử hoặc phân tử mang điện tích dương hoặc âm. Chúng được hình thành do sự mất hoặc tăng của một hoặc nhiều electron trong nguyên tử hoặc phân tử. Loại và số lượng ion phụ thuộc vào thành phần của plasma và cách thức tạo ra nó. Các electron tự do tách ra khỏi nguyên tử hoặc phân tử và trở thành các hạt tích điện âm. Các electron tự do có năng lượng cao và có thể di chuyển và dẫn điện để phản ứng với điện trường. Ngoài các electron và ion tự do, trong plasma còn có một số hạt trung tính, tức là các nguyên tử hoặc phân tử chưa bị ion hóa. Những hạt trung tính này đóng vai trò cân bằng các ion và electron trong plasma, duy trì tính trung hòa điện tổng thể của plasma. Các gốc tự do là một loại hóa chất có các electron chưa ghép cặp, đóng vai trò quan trọng trong các phản ứng hóa học và trong cơ thể sống. Các gốc tự do thường rất dễ phản ứng vì chúng có xu hướng ghép đôi các electron bằng cách bẫy chúng hoặc cho chúng đi.

Tính chất của huyết tương

Tính chất của plasma khác với các trạng thái vật chất khác như khí, rắn hoặc lỏng, có độ dẫn điện cao, tính chất quang học độc đáo và dao động plasma. Trước hết, nó là một chất dẫn điện và có thể dẫn dòng điện. Điều này là do có một số lượng lớn các electron tự do trong plasma, chúng có thể di chuyển dưới tác dụng của điện trường và tạo thành dòng điện. Thứ hai, plasma có tương tác mạnh với bức xạ điện từ và có thể phát ra, hấp thụ và tán xạ ánh sáng. Ngoài ra, plasma còn có các đặc tính nhiệt động độc đáo như nhiệt độ cao, áp suất thấp và mật độ năng lượng cao.

Fountyl Technologies PTE Ltd, đang tập trung vào ngành sản xuất chất bán dẫn, các sản phẩm chính bao gồm: Mâm cặp chốt, mâm cặp gốm xốp, bộ tác động cuối bằng gốm, dầm vuông gốm, trục chính bằng gốm, vui lòng liên hệ và đàm phán!